| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-31页 |
| ·同步辐射光源 | 第12-13页 |
| ·同步辐射的发展历史 | 第12-13页 |
| ·同步辐射的特点 | 第13页 |
| ·同步辐射的应用 | 第13页 |
| ·XAFS方法 | 第13-17页 |
| ·XAFS方法的发展历史 | 第13-16页 |
| ·XAFS方法的特点 | 第16-17页 |
| ·稀磁半导体 | 第17-22页 |
| ·稀磁半导体的原理和特性 | 第19-21页 |
| ·稀磁半导体的研究现状 | 第21-22页 |
| ·Si基稀磁半导体薄膜研究意义 | 第22-24页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第24-26页 |
| 参考文献 | 第26-31页 |
| 第二章 XAFS基本理论和数据分析 | 第31-49页 |
| ·XAFS基本理论 | 第31-36页 |
| ·X射线吸收理论 | 第31-34页 |
| ·XAFS基本方程 | 第34-36页 |
| ·XAFS数据分析 | 第36-46页 |
| ·XAFS数据分析步骤 | 第36-41页 |
| ·XAFS数据分析软件 | 第41-46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 第三章 Fe_xSi_(1-x)稀磁半导体薄膜的结构研究 | 第49-71页 |
| ·磁控溅射共沉积方法制备的Fe_xSi_(1-x)稀磁半导体薄膜 | 第49-51页 |
| ·磁控溅射设备 | 第49-51页 |
| ·Fe_xSi_(1-x)稀磁半导体薄膜的制备方法 | 第51页 |
| ·测试手段及设备 | 第51-53页 |
| ·Fe K边X射线吸收谱(XAFS) | 第51-53页 |
| ·Raman光谱 | 第53页 |
| ·实验结果分析 | 第53-59页 |
| ·Fe K边XAFS结果与分析 | 第53-58页 |
| ·Raman光谱结果与分析 | 第58-59页 |
| ·讨论 | 第59-63页 |
| ·样品结构参数的讨论 | 第59-60页 |
| ·样品中Fe原子占位的讨论 | 第60-63页 |
| ·分子束外延(MBE)方法制备的Fe_xSi_(1-x)稀磁半导体薄膜 | 第63-66页 |
| ·样品制备 | 第63-64页 |
| ·Fe K边的XANES分析与讨论 | 第64-66页 |
| ·结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 第四章 Mn_xSi_(1-x)稀磁半导体薄膜的结构研究 | 第71-83页 |
| ·样品的制备 | 第71页 |
| ·测试手段及设备 | 第71-72页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第71-72页 |
| ·Mn K边X射线吸收谱(XAFS) | 第72页 |
| ·实验结果分析 | 第72-76页 |
| ·XRD结果与分析 | 第72-73页 |
| ·Mn K边XAFS结果与分析 | 第73-76页 |
| ·讨论 | 第76-79页 |
| ·样品中结构参数的讨论 | 第76-77页 |
| ·样品中Mn原子占位的讨论 | 第77-79页 |
| ·结论 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-83页 |
| 在读期间发表的学术论文 | 第83-85页 |
| 致谢 | 第85页 |
