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电子工艺用新型水基清洗剂的研发及清洗机理的研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-9页
第一章 绪论第9-16页
   ·研究的目的和意义第9-11页
   ·国内外清洗剂的研究现状及发展趋势第11-13页
   ·研究内容、方法及技术路线第13-15页
   ·小结第15-16页
第二章 清洗机理的研究第16-33页
   ·试验部分第16-19页
     ·主要仪器设备第16页
     ·实验方法第16-19页
   ·结果与讨论第19-32页
     ·电子组装工艺中污染物的种类第19-25页
     ·清洗机理第25-30页
     ·清洗方法第30-32页
   ·本章小结第32-33页
第三章 水基清洗剂组分选取与配方优化第33-46页
   ·实验部分第33-37页
     ·主要仪器设备第33页
     ·实验方法第33-37页
   ·结果与讨论第37-45页
     ·组分的选择第37-40页
     ·配方优化第40-45页
   ·本章小结第45-46页
第四章 清洗工艺和水基清洗剂可靠性研究第46-64页
   ·清洗工艺第46-47页
     ·喷洗清洗第46页
     ·超声清洗第46-47页
     ·手工刷洗第47页
   ·水基清洗剂可靠性研究第47-63页
     ·电性能第47-58页
     ·腐蚀性能第58-60页
     ·环保验证第60-63页
   ·本章小结第63-64页
第五章 项目的经济性、可行性第64-66页
   ·发展前景第64页
   ·项目特色和创新突破点第64-65页
   ·本章小结第65-66页
结论第66-68页
参考文献第68-72页
攻读硕士学位期间取得的研究成果第72-73页
致谢第73-74页

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