双槽电化学腐蚀制备多孔硅及其发光性能研究

中文摘要	第1-6页
Abstract	第6-8页
目录	第8-10页
图和附表清单	第10-11页
1 绪论	第11-24页
·多孔硅发光材料综述	第11-12页
·多孔硅的制备方法	第12-15页
·多孔硅的形成机理	第15-19页
·多孔硅的发光机理	第19-22页
·多孔硅的应用	第22-23页
·本论文的内容划分	第23-24页
2 实验材料、试样制备及测试方法	第24-31页
·实验材料	第24-25页
·试样制备方法	第25-27页
·实验装置	第25页
·PS制备过程	第25-27页
·多孔硅的稳定化	第27-29页
·现有稳定化方法简介	第27-28页
·本论文所用的稳定化方法	第28-29页
·测试原理及方法	第29-31页
·光致发光(PL)性能测试	第29-30页
·表面形貌观测	第30-31页
3 实验结果与分析	第31-48页
·腐蚀电流密度对多孔硅微结构及发光特性的影响	第31-34页
·腐蚀时间对多孔硅形貌及发光特性的影响	第34-36页
·腐蚀液浓度对多孔硅形貌及发光特性的影响	第36-39页
·后处理对发光性能的影响	第39-45页
·阴极还原处理对多孔硅发光性能的影响	第39-40页
·强酸处理对多孔硅发光性能的影响	第40-42页
·阴极还原-强酸处理对多孔硅发光性能的影响	第42-45页
·多孔硅发光稳定性研究	第45-48页
4 结论	第48-49页
参考文献	第49-54页
附录A 实验装置实物图	第54-55页
附录B 样品发光效果	第55-56页
个人简历	第56-57页
致谢	第57页