| 摘要 | 第4-7页 |
| abstract | 第7-10页 |
| 第1章 绪论 | 第17-47页 |
| 1.1 垂直腔面发射激光器(VCSEL)的概述 | 第17-27页 |
| 1.1.1 VCSEL的简介 | 第17-19页 |
| 1.1.2 VCSEL的发展 | 第19-23页 |
| 1.1.3 VCSEL的应用 | 第23-27页 |
| 1.2 VCSEL偏振控制的研究背景及意义 | 第27-43页 |
| 1.3 两模VCSEL的研究背景及意义 | 第43-45页 |
| 1.4 本论文的研究工作 | 第45-47页 |
| 第2章 表面光栅VCSEL的基本原理 | 第47-69页 |
| 2.1 VCSEL结构及工作原理 | 第47-63页 |
| 2.1.1 阈值增益 | 第48-49页 |
| 2.1.2 DBR反射镜 | 第49-52页 |
| 2.1.3 模式特性 | 第52-58页 |
| 2.1.4 偏振特性 | 第58-63页 |
| 2.2 表面光栅VCSEL的偏振模拟 | 第63-67页 |
| 2.3 本章小节 | 第67-69页 |
| 第3章 表面光栅VCSEL的制备工艺研究 | 第69-95页 |
| 3.1 光栅制备技术的简介 | 第69-81页 |
| 3.1.1 电子束曝光技术 | 第69-72页 |
| 3.1.2 纳米压印技术 | 第72-77页 |
| 3.1.3 全息光刻技术 | 第77-79页 |
| 3.1.4 泰尔伯特位移光刻 | 第79-81页 |
| 3.2 本论文中VCSEL表面光栅的制作方案 | 第81-82页 |
| 3.3 稳定偏振的表面光栅VCSEL激光器的制备 | 第82-94页 |
| 3.3.1 VCSEL激光器的表面光栅的制备 | 第82-86页 |
| 3.3.2 表面光栅VCSEL激光器的制备 | 第86-94页 |
| 3.4 本章小结 | 第94-95页 |
| 第4章 表面光栅VCSEL的测试与分析 | 第95-107页 |
| 4.1 无表面光栅的VCSEL的P-I-V特性 | 第95-97页 |
| 4.2 稳定偏振的表面光栅VCSEL器件的特性分析 | 第97-102页 |
| 4.2.1 单模稳定偏振表面光栅VCSEL器件的测试 | 第97-100页 |
| 4.2.2 多模稳定偏振表面光栅VCSEL器件的测试 | 第100-102页 |
| 4.3 不同光栅周期的表面光栅VCSEL器件的特性测试 | 第102-104页 |
| 4.4 本章小结 | 第104-107页 |
| 第5章 两模VCSEL的研究 | 第107-123页 |
| 5.1 模式控制方法介绍 | 第107-115页 |
| 5.2 两模VCSEL设计与模拟 | 第115-119页 |
| 5.3 两模VCSEL的性能测试 | 第119-122页 |
| 5.4 本章小节 | 第122-123页 |
| 第6章 总结与展望 | 第123-125页 |
| 参考文献 | 第125-137页 |
| 致谢 | 第137-139页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第139页 |
