850nm超辐射发光管结构设计与制作
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 超辐射发光二极管的概述 | 第8页 |
| 1.2 超辐射发光二极管的研究概况 | 第8-11页 |
| 1.3 超辐射发光二极管的应用 | 第11-12页 |
| 1.4 国内外发展现状 | 第12页 |
| 1.5 本论文的主要工作 | 第12-14页 |
| 第二章 超辐射发光二极管的原理与设计 | 第14-25页 |
| 2.1 超辐射发光二极管的原理 | 第14-15页 |
| 2.2 超辐射发光二极管所用外延片的结构设计 | 第15-20页 |
| 2.3 脊形波导结构 | 第20-22页 |
| 2.4 倾斜脊形条和模斑转换器设计 | 第22-24页 |
| 2.5 本章小结 | 第24-25页 |
| 第三章 超辐射发光二极管的工艺制备 | 第25-41页 |
| 3.1 外延生长工艺 | 第25-26页 |
| 3.2 管芯工艺技术概述 | 第26页 |
| 3.3 光刻和刻蚀工艺 | 第26-35页 |
| 3.4 制备绝缘介质膜 | 第35-36页 |
| 3.5 电极制备和减薄抛光工艺 | 第36-37页 |
| 3.6 前后腔面增透膜的设计 | 第37-39页 |
| 3.7 封装焊接工艺 | 第39-40页 |
| 3.8 本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 超辐射发光二极管增益钳制系统的设计 | 第41-45页 |
| 4.1 布拉格分布反馈系统 | 第41-42页 |
| 4.2 纳米压印技术 | 第42页 |
| 4.3 采用纳米压印制作增益钳制系统 | 第42-44页 |
| 4.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章 超辐射发光二极管的测试 | 第45-48页 |
| 5.1 测试 | 第45-47页 |
| 5.2 本章小节 | 第47-48页 |
| 总结 | 第48-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 攻读硕士学位期间研究成果 | 第54页 |
