1 550nm超辐射发光管结构设计与制作
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第7-9页 |
| 1.1 引言 | 第7-8页 |
| 1.2 本论文的主要工作 | 第8-9页 |
| 第二章 文献综述 | 第9-19页 |
| 2.1 超辐射的定义和发光特性 | 第9-10页 |
| 2.2 超辐射发光二极管的发展历史 | 第10-15页 |
| 2.3 超辐射发光二极管的主要应用 | 第15-18页 |
| 2.4 本章小结 | 第18-19页 |
| 第三章 超辐射发光二极管结构设计和理论分析 | 第19-26页 |
| 3.1 超辐射发光二极管的有源区设计 | 第19-24页 |
| 3.2 超辐射发光二极管外延结构 | 第24页 |
| 3.3 超辐射发光二极管整体结构设计 | 第24-25页 |
| 3.4 本章小结 | 第25-26页 |
| 第四章 超辐射发光二极管的工艺制备 | 第26-42页 |
| 4.1 外延片工艺技术概述 | 第26页 |
| 4.2 光刻工艺 | 第26-29页 |
| 4.3 刻蚀工艺 | 第29-33页 |
| 4.4 欧姆接触工艺 | 第33-34页 |
| 4.5 减薄抛光工艺 | 第34-38页 |
| 4.6 超辐射发光二极管芯片制作工艺 | 第38-41页 |
| 4.7 本章小结 | 第41-42页 |
| 第五章 超辐射发光二极管的测试 | 第42-51页 |
| 5.1 测试设备及具体步骤 | 第42页 |
| 5.2 测试数据及分析 | 第42-50页 |
| 5.3 本章小结 | 第50-51页 |
| 总结 | 第51-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 硕士期间研究成果 | 第57页 |
