多晶硅还原炉内流动与传热过程数值模拟与优化
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 背景 | 第10-11页 |
| 1.2 多晶硅的性质 | 第11-12页 |
| 1.3 多晶硅产业发展现状与发展趋势 | 第12-14页 |
| 1.3.1 国外多晶硅产业的发展现状 | 第12-13页 |
| 1.3.2 国内多晶硅产业的发展现状 | 第13-14页 |
| 1.4 多晶硅生产工艺 | 第14-19页 |
| 1.4.1 冶金法 | 第15-16页 |
| 1.4.2 硅烷热分解法 | 第16页 |
| 1.4.3 流化床法 | 第16-17页 |
| 1.4.4 改良西门子法 | 第17-19页 |
| 1.5 计算流体力学 | 第19-21页 |
| 1.6 模型数值模拟求解 | 第21页 |
| 1.7 化学气相沉积反应简介 | 第21-22页 |
| 1.8 本文研究思路与方法 | 第22-24页 |
| 1.8.1 研究思路 | 第22-23页 |
| 1.8.2 研究方法 | 第23-24页 |
| 第二章 数学模型及几何建模 | 第24-41页 |
| 2.1 前言 | 第24页 |
| 2.2 数学模型建立 | 第24-30页 |
| 2.2.1 流体基本控制方程的建立 | 第24-26页 |
| 2.2.2 湍流模型 | 第26-28页 |
| 2.2.3 辐射模型 | 第28-30页 |
| 2.3 几何模型的建立 | 第30-35页 |
| 2.3.1 传统还原炉结构 | 第30-32页 |
| 2.3.2 网格划分 | 第32-34页 |
| 2.3.3 模型假设 | 第34-35页 |
| 2.4 初始边界条件 | 第35-40页 |
| 2.4.1 边界条件设置 | 第35-36页 |
| 2.4.2 混合气体性质 | 第36-39页 |
| 2.4.3 固体材料性质 | 第39-40页 |
| 2.5 本章小结 | 第40-41页 |
| 第三章 多晶硅还原炉内流场研究 | 第41-58页 |
| 3.1 前言 | 第41页 |
| 3.2 纯氢气进料流场分析 | 第41-43页 |
| 3.3 传统多晶硅还原炉流场模拟研究 | 第43-48页 |
| 3.4 不同硅棒直径流场研究 | 第48-53页 |
| 3.5 改进后还原炉的流场分析 | 第53-57页 |
| 3.6 本章小结 | 第57-58页 |
| 第四章 还原炉温度场研究 | 第58-70页 |
| 4.1 前言 | 第58-59页 |
| 4.2 传统还原炉内的温度场分析 | 第59-62页 |
| 4.3 不同硅棒直径的温度场分析 | 第62-65页 |
| 4.4 改进后的还原炉温度场分析 | 第65-68页 |
| 4.5 本章小结 | 第68-70页 |
| 第五章 还原炉内耗能研究 | 第70-77页 |
| 5.1 两种多晶硅还原炉内耗能比较 | 第70-74页 |
| 5.1.1 辐射理论 | 第70-71页 |
| 5.1.2 普通还原炉耗能分析 | 第71-73页 |
| 5.1.3 改进后还原炉耗能分析 | 第73-74页 |
| 5.2 壁面反射率研究 | 第74-76页 |
| 5.2.1 壁面反射率对还原炉温度场的影响 | 第74-75页 |
| 5.2.2 发射率与材料的关系 | 第75-76页 |
| 5.3 本章小结 | 第76-77页 |
| 第六章 结论与展望 | 第77-80页 |
| 6.1 结论 | 第77-78页 |
| 6.2 展望 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-86页 |
| 符号表 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
