| 摘要 | 第10-11页 |
| ABSTRACT | 第11-12页 |
| 符号说明 | 第13-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-30页 |
| 1.1 概述 | 第14页 |
| 1.2 ZnO基磁性半导体材料 | 第14-24页 |
| 1.2.1 磁性半导体材料 | 第14-16页 |
| 1.2.2 ZnO的基本性质及应用 | 第16-17页 |
| 1.2.3 ZnO基磁性半导体材料的研究现状 | 第17-20页 |
| 1.2.4 氧化物半导体磁性产生的模型 | 第20-23页 |
| 1.2.5 氧化物磁性半导体的制备 | 第23-24页 |
| 1.3 半导体材料中的接触现象 | 第24-26页 |
| 1.4 电控磁性的发展及研究现状 | 第26-29页 |
| 1.5 课题选取及意义 | 第29-30页 |
| 第二章 实验方法 | 第30-37页 |
| 2.1 薄膜样品的制备技术 | 第30-33页 |
| 2.1.1 磁控溅射技术(Magnetron Sputtering) | 第30-32页 |
| 2.1.2 靶材的制备 | 第32-33页 |
| 2.1.3 衬底的选择 | 第33页 |
| 2.2 薄膜样品的表征方法 | 第33-36页 |
| 2.2.1 X射线衍射法(XRD) | 第33-35页 |
| 2.2.2 样品的形貌表征 | 第35-36页 |
| 2.3 样品的磁性测量 | 第36-37页 |
| 第三章 未掺杂ZnO的电控磁性研究 | 第37-48页 |
| 3.1 引言 | 第37页 |
| 3.2 样品制备及测量方法 | 第37-40页 |
| 3.2.1 样品的制备 | 第37-38页 |
| 3.2.2 样品的表征 | 第38-39页 |
| 3.2.3 测量方法 | 第39-40页 |
| 3.3 电场调控磁性的研究 | 第40-47页 |
| 3.3.1 电场对ZnO/NSTO的磁性调控中溅射氩氧比的影响 | 第41-44页 |
| 3.3.2 电场对ZnO/substrate的磁性调控中生长衬底的影响 | 第44-46页 |
| 3.3.3 电场对RRAM结构的磁性调控 | 第46-47页 |
| 3.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 Co:ZnO的电场调控磁性研究 | 第48-61页 |
| 4.1 引言 | 第48页 |
| 4.2 样品制备及测量方法 | 第48-52页 |
| 4.2.1 样品的制备 | 第48-49页 |
| 4.2.2 样品的表征 | 第49-51页 |
| 4.2.3 测量方法 | 第51-52页 |
| 4.3 电场调控磁性的研究 | 第52-60页 |
| 4.3.1 电场对Ag/Co: ZnO/NSTO的磁性调控中掺杂比例的影响 | 第52-55页 |
| 4.3.2 电场对Ag/Co_(0.05)Zn_(0.95)O/NSTO的磁性调控中生长温度的影响 | 第55-57页 |
| 4.3.3 电场对Ag/Co_(0.05)Zn_(0.95)O/Pt的磁性调控中薄膜厚度的影响 | 第57-59页 |
| 4.3.4 电场对Ag/Co_(0.05)Zn_(0.95)O/substrate的磁性调控中衬底的影响 | 第59-60页 |
| 4.4 本章小结 | 第60-61页 |
| 第五章 C:ZnO的电场调控磁性研究 | 第61-72页 |
| 5.1 引言 | 第61页 |
| 5.2 样品制备及测量方法 | 第61-64页 |
| 5.2.1 样品的制备 | 第61-62页 |
| 5.2.2 样品的表征 | 第62-64页 |
| 5.2.3 测量方法 | 第64页 |
| 5.3 电场调控磁性的研究 | 第64-70页 |
| 5.3.1 电场对Ag/C: ZnO/NSTO的磁性调控中掺杂比例的影响 | 第64-67页 |
| 5.3.2 电场对Ag/C_(0.01)Zn_(0.99)O/Pt的磁性调控中生长温度的影响 | 第67-69页 |
| 5.3.3 电场对Ag/C_(0.01)Zn_(0.99)O/Pt的磁性调控中薄膜厚度的影响 | 第69-70页 |
| 5.4 本章小结 | 第70-72页 |
| 第六章 总结与展望 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第84-85页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第85页 |
