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熔石英元件超光滑磁流变抛光工艺基础研究

摘要第3-4页
ABSTRACT第4-5页
第一章 绪论第8-15页
    1.1 课题来源及研究背景第8-10页
        1.1.1 课题来源第8页
        1.1.2 研究背景第8-10页
    1.2 国内外研究现状第10-13页
        1.2.1 熔石英超光滑磁流变抛光工艺基础研究现状第10-12页
        1.2.2 存在的主要问题第12-13页
    1.3 本文研究目的及意义第13页
    1.4 本文研究思路及主要内容第13-15页
        1.4.1 研究思路第13-14页
        1.4.2 主要研究内容第14-15页
第二章 熔石英元件超光滑磁流变抛光去除机理第15-25页
    2.1 熔石英材料的理化性质第15-17页
    2.2 熔石英材料超光滑去除机理与本质第17-19页
    2.3 影响熔石英磁流变超光滑抛光去除的主要工艺因素第19-24页
    2.4 本章小结第24-25页
第三章 熔石英光学元件超光滑表面质量检测与评价第25-33页
    3.1 超光滑光学表面现有表征方法及其局限第25-27页
    3.2 基于功率谱密度的超光滑表面三维评价法第27-31页
    3.3 本章小结第31-33页
第四章 主要磁流变抛光工艺参数对熔石英超光滑表面质量影响第33-46页
    4.1 磁流变抛浸入深度的影响第34-40页
        4.1.1 实验设计第34-37页
        4.1.2 结果和讨论第37-40页
    4.2 磁场强度的影响第40-45页
        4.2.1 实验设计第41-42页
        4.2.2 结果与讨论第42-45页
    4.3 本章小结第45-46页
第五章 磁流变抛光液主要特性对熔石英超光滑表面质量的影响第46-57页
    5.1 羰基铁粉粒径的影响第46-50页
        5.1.1 实验设计第47-48页
        5.1.2 结果与讨论第48-50页
    5.2 铁粉表面包覆的影响第50-53页
        5.2.1 实验设计第50-51页
        5.2.2 结果与讨论第51-53页
    5.3 抛光液pH值的影响第53-56页
        5.3.1 实验设计第53-54页
        5.3.2 结果与讨论第54-56页
    5.4 本章小结第56-57页
第六章 总结与展望第57-59页
    6.1 全文总结第57-58页
    6.2 技术进步第58页
    6.3 展望第58-59页
致谢第59-60页
参考文献第60-64页
附录A 攻读硕士学位期间发表的学术论文第64页
附录B 攻读硕士学位期间参加的学术活动第64页

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