碳化硅粉末磁脉冲致密/无压烧结试验研究
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
目录 | 第7-10页 |
第1章 绪论 | 第10-21页 |
1.1 引言 | 第10页 |
1.2 碳化硅陶瓷烧结工艺 | 第10-12页 |
1.2.1 无压烧结 | 第11页 |
1.2.2 热压烧结 | 第11页 |
1.2.3 反应烧结 | 第11页 |
1.2.4 放电等离子烧结 | 第11-12页 |
1.2.5 烧结工艺对比 | 第12页 |
1.3 无压烧结高致密成形方法的国内外研究现状 | 第12-20页 |
1.3.1 碳化硅无压烧结国内外研究现状 | 第12-13页 |
1.3.2 超高压成形 | 第13-14页 |
1.3.3 爆炸成形 | 第14-15页 |
1.3.4 高速压制成形 | 第15页 |
1.3.5 磁脉冲成形 | 第15-20页 |
1.4 选题意义与研究内容 | 第20-21页 |
第2章 碳化硅粉末高速致密的有限元模拟 | 第21-34页 |
2.1 引言 | 第21页 |
2.2 有限元模型的建立 | 第21-24页 |
2.2.1 模型的建立 | 第21-22页 |
2.2.2 材料模型的选择 | 第22-23页 |
2.2.4 接触表的定义 | 第23-24页 |
2.2.5 迭代方法的确定 | 第24页 |
2.3 粉末致密模拟结果分析 | 第24-29页 |
2.3.1 冲头载荷变化 | 第24-25页 |
2.3.2 相对密度变化及分布 | 第25-27页 |
2.3.3 等效应力变化 | 第27页 |
2.3.4 粉末体中位移分布 | 第27-28页 |
2.3.5 粉末体密度分布不均匀分析 | 第28-29页 |
2.4 工艺参数的影响 | 第29-33页 |
2.4.1 冲头速度 | 第29-31页 |
2.4.2 压制方式 | 第31-32页 |
2.4.3 摩擦系数 | 第32页 |
2.4.4 初始粉末高径比 | 第32-33页 |
2.5 本章小结 | 第33-34页 |
第3章 碳化硅粉末磁脉冲致密试验研究 | 第34-54页 |
3.1 引言 | 第34页 |
3.2 试验用原材料 | 第34-35页 |
3.2.1 粉末原材料 | 第34-35页 |
3.2.2 添加剂 | 第35页 |
3.3 试验装置 | 第35-37页 |
3.3.1 试验设备 | 第35-36页 |
3.3.2 试验装置与模具 | 第36-37页 |
3.4 试验方案 | 第37-39页 |
3.4.1 方案的确定 | 第37-38页 |
3.4.2 工艺流程 | 第38-39页 |
3.5 试验研究方法 | 第39-42页 |
3.5.1 密度 | 第39页 |
3.5.2 失重率与线收缩率 | 第39-40页 |
3.5.3 X 射线衍射 | 第40页 |
3.5.4 扫描电镜 | 第40页 |
3.5.5 维氏硬度 | 第40-41页 |
3.5.6 断裂韧性 | 第41页 |
3.5.7 热膨胀系数 | 第41-42页 |
3.6 工艺参数对压坯体积密度的影响 | 第42-48页 |
3.6.1 粘结剂 | 第42-43页 |
3.6.2 粉末质量 | 第43-44页 |
3.6.3 电容量 | 第44-45页 |
3.6.4 放电电压 | 第45-46页 |
3.6.5 放电次数 | 第46-47页 |
3.6.6 致密方式 | 第47-48页 |
3.7 工艺参数对压坯微观结构的影响 | 第48-52页 |
3.7.1 粘结剂 | 第48-49页 |
3.7.2 放电电压 | 第49-50页 |
3.7.3 放电次数 | 第50-51页 |
3.7.4 致密方式 | 第51-52页 |
3.8 压坯缺陷分析 | 第52-53页 |
3.9 本章小结 | 第53-54页 |
第4章 碳化硅陶瓷烧结体性能与微观结构分析 | 第54-68页 |
4.1 引言 | 第54页 |
4.2 烧结工艺的确定 | 第54-55页 |
4.3 烧结结果分析 | 第55-66页 |
4.3.1 物相分析 | 第56-58页 |
4.3.2 线收缩率和失重率 | 第58-60页 |
4.3.3 工艺参数对体积密度的影响 | 第60-61页 |
4.3.4 工艺参数对烧结体性能的影响 | 第61-64页 |
4.3.5 工艺参数对烧结体显微结构的影响 | 第64-66页 |
4.5 烧结体缺陷与不足分析 | 第66-67页 |
4.6 本章小结 | 第67-68页 |
结论 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-74页 |
致谢 | 第74页 |