| 学位论文数据集 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 符号说明 | 第11-20页 |
| 第一章 绪论 | 第20-30页 |
| 1.1 课题的研究背景、目的和意义 | 第20-21页 |
| 1.2 微流控芯片简介 | 第21-26页 |
| 1.2.1 微流控芯片基本概念 | 第21页 |
| 1.2.2 微流控芯片基本特征 | 第21页 |
| 1.2.3 微流控芯片应用领域 | 第21-22页 |
| 1.2.4 微流控芯片常见结构 | 第22-23页 |
| 1.2.5 微流控芯片常用材料 | 第23页 |
| 1.2.6 微流控芯片制备方法 | 第23-26页 |
| 1.3 微流控芯片研究进展 | 第26-27页 |
| 1.3.1 国外研究进展 | 第26-27页 |
| 1.3.2 国内研究进展 | 第27页 |
| 1.4 论文的主要研究内容和创新点 | 第27-30页 |
| 1.4.1 主要研究内容 | 第27-28页 |
| 1.4.2 创新点 | 第28-30页 |
| 第二章 微流控芯片结构设计及CFD求解方法 | 第30-40页 |
| 2.1 微流控芯片结构设计及工作原理 | 第30-32页 |
| 2.1.1 微流控芯片结构设计 | 第30-31页 |
| 2.1.2 微流控芯片工作原理 | 第31-32页 |
| 2.2 CFD物理模型建立 | 第32-34页 |
| 2.2.1 T型微通道模型 | 第32-33页 |
| 2.2.2 Y型微通道模型 | 第33-34页 |
| 2.3 CFD求解方程 | 第34-36页 |
| 2.3.1 VOF模型求解方程 | 第34-35页 |
| 2.3.2 混合模型求解方程 | 第35-36页 |
| 2.4 CFD求解条件 | 第36-38页 |
| 2.4.1 VOF模型的求解条件 | 第36-37页 |
| 2.4.2 混合模型的求解条件 | 第37-38页 |
| 2.5 本章小结 | 第38-40页 |
| 第三章 微通道工作过程的数值模拟及结构优化 | 第40-62页 |
| 3.1 T型微通道CFD结果分析 | 第40-49页 |
| 3.1.1 交叉角∠β大小对微液柱形成的影响 | 第40-42页 |
| 3.1.2 垂直通道与主通道宽度比W_2/W_1对微液柱形成的影响 | 第42-44页 |
| 3.1.3 主通道深宽比D_1/W_1对微液柱形成的影响 | 第44-46页 |
| 3.1.4 垂直通道与主通道深度之比D_2/D_1对微液柱形成的影响 | 第46-48页 |
| 3.1.5 T型微通道尺寸正交试验 | 第48-49页 |
| 3.2 Y型微通道CFD结果分析 | 第49-58页 |
| 3.2.1 分叉角∠γ大小对试剂混合强度的影响 | 第49-52页 |
| 3.2.2 主通道部分体积缩小比W_4/W_3对试剂混合强度的影响 | 第52-54页 |
| 3.2.3 主通道微结构对试剂混合强度的影响 | 第54-58页 |
| 3.3 微流控芯片微通道最优尺寸的确定 | 第58-59页 |
| 3.4 本章小结 | 第59-62页 |
| 第四章 微流控芯片的制备工艺研究 | 第62-82页 |
| 4.1 光刻和湿法刻蚀法制备微通道 | 第62-69页 |
| 4.1.1 实验器材 | 第62页 |
| 4.1.2 实验步骤 | 第62-65页 |
| 4.1.3 实验结果分析 | 第65-69页 |
| 4.2 光刻和浇注法制备微通道 | 第69-75页 |
| 4.2.1 实验器材 | 第69页 |
| 4.2.2 实验步骤 | 第69-72页 |
| 4.2.3 实验结果分析 | 第72-75页 |
| 4.3 化学方法制备微通道微结构 | 第75-80页 |
| 4.3.1 实验器材 | 第76页 |
| 4.3.2 实验步骤 | 第76-79页 |
| 4.3.3 实验结果分析 | 第79-80页 |
| 4.4 本章小结 | 第80-82页 |
| 第五章 结论与展望 | 第82-84页 |
| 5.1 结论 | 第82-83页 |
| 5.2 展望 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-86页 |
| 致谢 | 第86-88页 |
| 研究成果及发表的论文 | 第88-90页 |
| 作者和导师简介 | 第90-91页 |
| 附件 | 第91-92页 |
