硫化锌晶体固结磨料抛光研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第13-25页 |
| 1.1 引言 | 第13-14页 |
| 1.2 固结磨料抛光技术 | 第14-19页 |
| 1.2.1 固结磨料抛光技术简介 | 第14-16页 |
| 1.2.2 固结磨料抛光技术研究现状 | 第16-17页 |
| 1.2.3 亲水性固结磨料抛光垫 | 第17-19页 |
| 1.3 红外光学晶体 | 第19-23页 |
| 1.3.1 硫化锌晶体的性质及应用 | 第19-21页 |
| 1.3.2 红外光学晶体的加工现状 | 第21-23页 |
| 1.4 本文主要研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 硫化锌晶体塑性去除临界条件研究 | 第25-36页 |
| 2.1 维氏压痕实验 | 第25-29页 |
| 2.1.1 实验设置及设备 | 第25-26页 |
| 2.1.2 显微压痕形貌 | 第26-27页 |
| 2.1.3 硫化锌物理力学性能 | 第27-29页 |
| 2.2 纳米划痕实验 | 第29-31页 |
| 2.2.1 实验设置及设备 | 第29-30页 |
| 2.2.2 纳米划痕形貌及材料去除过程分析 | 第30-31页 |
| 2.3 单颗磨粒静态切深模型 | 第31-34页 |
| 2.3.1 磨粒与工件的接触模型 | 第31-33页 |
| 2.3.2 数值仿真结果及分析 | 第33-34页 |
| 2.4 本章小结 | 第34-36页 |
| 第三章 固结磨料抛光垫的优化研究 | 第36-47页 |
| 3.1 固结磨料抛光垫优化实验设置 | 第36-39页 |
| 3.1.1 实验参数设置及设备 | 第36-38页 |
| 3.1.2 研磨 | 第38-39页 |
| 3.2 磨粒种类的选择 | 第39-41页 |
| 3.2.1 材料去除率 | 第39-40页 |
| 3.2.2 表面形貌 | 第40-41页 |
| 3.2.3 表面粗糙度和微观表面形貌 | 第41页 |
| 3.3 磨粒粒径的选择 | 第41-44页 |
| 3.3.1 材料去除率 | 第42页 |
| 3.3.2 表面形貌 | 第42-43页 |
| 3.3.3 表面粗糙度和微观表面形貌 | 第43-44页 |
| 3.4 基体类型的选择 | 第44-46页 |
| 3.4.1 材料去除率 | 第44页 |
| 3.4.2 表面形貌 | 第44-45页 |
| 3.4.3 表面粗糙度和微观表面形貌 | 第45-46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 硫化锌晶体的固结磨料抛光 | 第47-64页 |
| 4.1 抛光液对硫化锌抛光的影响 | 第47-54页 |
| 4.1.1 实验设置及设备 | 第47页 |
| 4.1.2 碱性组抛光结果及分析 | 第47-51页 |
| 4.1.3 酸性组抛光结果及分析 | 第51-54页 |
| 4.2 抛光参数的优化实验 | 第54-62页 |
| 4.2.1 实验设计 | 第54-55页 |
| 4.2.2 抛光参数对材料去除率的影响 | 第55-57页 |
| 4.2.3 抛光参数对表面质量的影响 | 第57-61页 |
| 4.2.4 优化及实验验证 | 第61-62页 |
| 4.3 本章小结 | 第62-64页 |
| 第五章 总结与展望 | 第64-66页 |
| 5.1 总结 | 第64-65页 |
| 5.2 展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第72-73页 |
