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正弦位相调制的飞秒偏振整形脉冲的相干控制研究

摘要第4-5页
Abstract第5页
第一章 绪论第9-24页
    1.1 相干控制第9-12页
        1.1.1 频域双色光位相相干控制方法第9-10页
        1.1.2 时域Pump-Dump方法第10-11页
        1.1.3 整形飞秒激光脉冲控制方法第11-12页
        1.1.4 现有相干控制的难点与挑战第12页
    1.2 飞秒激光脉冲整形技术第12-22页
        1.2.1 脉冲整形的各种方法第14-17页
        1.2.2 飞秒激光脉冲的测量方法第17-22页
    1.3 多光子脉冲干涉第22页
    1.4 激光场作用下的分子电离第22-24页
第二章 实验装置与相关方法第24-36页
    2.1 飞秒激光系统第25-26页
    2.2 飞秒脉冲整形系统第26-33页
        2.2.1 飞秒激光脉冲整形系统的设计第26页
        2.2.2 4f光路简介第26-27页
        2.2.3 空间光调制器简介第27-31页
        2.2.4 实验中使用的位相函数第31-33页
        2.2.5 偏振整形第33页
    2.3 飞行时间质谱仪第33-36页
第三章 分子在正弦位相调制的整形脉冲作用下的电离过程控制第36-59页
    3.1 正弦位相参数对子脉冲序列影响第36-44页
        3.1.1 SLM上施加正弦位相第36页
        3.1.2 参数A、T对脉冲序列的影响第36-38页
        3.1.3 参数ф对脉冲序列影响第38-42页
        3.1.4 偏振整形脉冲的实验表征第42-44页
    3.2 偏振整形脉冲诱导N_2O分子电离过程的相干控制第44-57页
        3.2.1 正弦位相参数A取不同值情况第44-50页
        3.2.2 正弦位相函数A取相同值情况第50-57页
    3.3 偏振整形脉冲诱导Xe原子电离过程的相干控制第57-59页
第四章 结论与展望第59-61页
参考文献第61-66页
作者简介第66-67页
致谢第67页

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