摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 前言 | 第9-30页 |
§1.1 磁性多层膜中的磁耦合现象及应用 | 第9-12页 |
§1.2 人工合成反铁磁中的层间交换耦合 | 第12-17页 |
§1.2.1 层间交换耦合理论 | 第12-15页 |
§1.2.2 层间交换耦合的温度依赖关系 | 第15-17页 |
§1.3 交换偏置 | 第17-20页 |
§1.4 垂直各向异性材料与多层膜 | 第20-22页 |
§1.5 本文主要研究内容 | 第22-24页 |
参考文献 | 第24-30页 |
第二章 样品的制备与测量 | 第30-38页 |
§2.1 样品的制备 | 第30-34页 |
§2.1.1 磁控溅射技术 | 第30-32页 |
§2.1.2 磁控溅射系统 | 第32-33页 |
§2.1.3 真空磁场热处理 | 第33-34页 |
§2.2 样品的测量 | 第34-37页 |
§2.2.1 样品磁性的测量 | 第34-36页 |
§2.2.2 磁畴结构的测量 | 第36-37页 |
参考文献 | 第37-38页 |
第三章 垂直各向异性人工合成反铁磁的磁化翻转 | 第38-49页 |
§3.1 背景介绍 | 第38页 |
§3.2 样品制备 | 第38-39页 |
§3.3 结果与讨论 | 第39-46页 |
§3.3.1 [CoFeB/Pt]_N多层膜的垂直各向异性 | 第39-40页 |
§3.3.2 中间层厚度对人工合成反铁磁结构的影响 | 第40-42页 |
§3.3.3 多层膜周期数对磁化翻转的影响 | 第42-43页 |
§3.3.4 磁性死层与多畴结构的影响 | 第43-45页 |
§3.3.5 测量温度的影响 | 第45-46页 |
§3.4 小结 | 第46-47页 |
参考文献 | 第47-49页 |
第四章 [CoFeB/Pd]_N多层膜间层间交换耦合的温度特性 | 第49-64页 |
§4.1 背景介绍 | 第49-50页 |
§4.2 样品制备 | 第50-51页 |
§4.3 结果与讨论 | 第51-62页 |
§4.3.1 表面/界面对超薄膜磁性的影响 | 第51-52页 |
§4.3.2 近邻CoFeB层厚度对耦合温度特性的影响 | 第52-55页 |
§4.3.3 Pd层厚度对耦合强度的影响 | 第55-57页 |
§4.3.4 磁性死层引起的耦合峰位移动 | 第57-59页 |
§4.3.5 Ru层上、下界面的不同影响 | 第59-62页 |
§4.4 小结 | 第62页 |
参考文献 | 第62-64页 |
第五章 MnIr与[CoFeB/Pd]_N耦合结构的交换偏置 | 第64-79页 |
§5.1 背景介绍 | 第64-65页 |
§5.2 样品制备 | 第65-66页 |
§5.3 结果与讨论 | 第66-76页 |
§5.3.1 近邻CoFeB层厚度对交换偏置的影响 | 第66-70页 |
§5.3.2 热处理对交换偏置的影响 | 第70-74页 |
§5.3.3 夹入层与引导层的影响 | 第74-76页 |
§5.4 小结 | 第76-77页 |
参考文献 | 第77-79页 |
第六章 总结与展望 | 第79-81页 |
在读博士期间发表及撰写的论文 | 第81-82页 |
致谢 | 第82-83页 |