| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 文献综述 | 第12-25页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 碳化硼的概述 | 第12-18页 |
| 1.2.1 碳化硼的结构特点 | 第12-13页 |
| 1.2.2 碳化硼的性质及其应用 | 第13-15页 |
| 1.2.3 碳化硼材料的制备方法 | 第15-18页 |
| 1.3 自蔓延高温合成反应的概述 | 第18-22页 |
| 1.3.1 自蔓延高温合成反应的发展状况 | 第18-19页 |
| 1.3.2 自蔓延高温合成反应的技术特点和机理 | 第19-20页 |
| 1.3.3 自蔓延高温合成反应的应用 | 第20-21页 |
| 1.3.4 稀释自蔓延反应的概述 | 第21-22页 |
| 1.4 本文的研究目的、意义和主要内容 | 第22-25页 |
| 1.4.1 本文研究意义和创新点 | 第22-23页 |
| 1.4.2 本文的研究内容 | 第23-25页 |
| 第2章 稀释自蔓延反应法制备碳化硼超细粉末 | 第25-41页 |
| 2.1 稀释自蔓延法原理简介 | 第25页 |
| 2.2 稀释自蔓延反应制备碳化硼超细粉末 | 第25-39页 |
| 2.2.1 实验部分 | 第25-32页 |
| 2.2.2 实验结果与分析 | 第32-37页 |
| 2.2.3 讨论 | 第37-39页 |
| 2.3 本章小结 | 第39-41页 |
| 第3章 一种可连续制备碳化硼超细粉末的合成装置与工艺 | 第41-49页 |
| 3.1 连续制备B4C稀释自蔓延合成装置 | 第41-45页 |
| 3.1.1 概述 | 第41页 |
| 3.1.2 技术背景 | 第41-43页 |
| 3.1.3 合成设备装置结构和作用的详细说明 | 第43-44页 |
| 3.1.4 中试设备连续式自蔓延反应合成装置的优势 | 第44页 |
| 3.1.5 具体实施方式 | 第44-45页 |
| 3.2 连续制备B4C稀释自蔓延合成工艺 | 第45-48页 |
| 3.2.1 中试实验工艺专利摘要 | 第45-46页 |
| 3.2.2 中试实验工艺详细介绍说明 | 第46页 |
| 3.2.3 中试实验工艺专利优势 | 第46-47页 |
| 3.2.4 中试实验操作实例 | 第47-48页 |
| 3.3 本章小结 | 第48-49页 |
| 第4章 全文总结与工作展望 | 第49-51页 |
| 4.1 全文总结 | 第49-50页 |
| 4.2 工作展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-57页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文及专利 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59页 |