| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 光催化氧化去除NO_x机理 | 第12-15页 |
| 1.2.1 光催化基本原理 | 第12-14页 |
| 1.2.2 NO_x光催化氧化去除机理 | 第14-15页 |
| 1.3 光催化材料去除NO_x的实际应用 | 第15-18页 |
| 1.3.1 光催化技术在室内的应用 | 第17-18页 |
| 1.3.2 光催化技术在室外的应用 | 第18页 |
| 1.4 TiO_2半导体光催化剂国内外研究进展 | 第18-24页 |
| 1.4.1 TiO_2光催化剂简介 | 第18-19页 |
| 1.4.2 TiO_2光催化剂的改性 | 第19-24页 |
| 1.5 本文的研究意义及研究内容 | 第24-27页 |
| 第二章 实验部分 | 第27-37页 |
| 2.1 试剂与仪器 | 第27-29页 |
| 2.2 半导体光催化材料的制备 | 第29-30页 |
| 2.2.1 TiO_2/HAp光催化复合材料的制备 | 第29-30页 |
| 2.2.2 C-TiO_2/GO光催化复合材料的制备 | 第30页 |
| 2.3 催化剂的表征方法 | 第30-34页 |
| 2.3.1 X射线衍射（XRD） | 第30-31页 |
| 2.3.2 红外光谱测试（FTIR） | 第31页 |
| 2.3.3 X射线光电子光谱测试（XPS） | 第31-32页 |
| 2.3.4 拉曼光谱测试（Raman spectra） | 第32页 |
| 2.3.5 扫描电子显微镜测试（SEM） | 第32页 |
| 2.3.6 透射电子显微镜测试（TEM） | 第32-33页 |
| 2.3.7 比表面和孔径分析测试（BET） | 第33页 |
| 2.3.8 紫外可见漫反射测试（DRS） | 第33页 |
| 2.3.9 程序升温脱附曲线测试（TPD） | 第33-34页 |
| 2.3.10 电子顺磁共振波谱测试（ESR） | 第34页 |
| 2.4 光催化活性系统及性能评价 | 第34-35页 |
| 2.5 光电化学性质测试 | 第35-37页 |
| 2.5.1 光电极的制备 | 第35-36页 |
| 2.5.2 光电化学性能测试 | 第36-37页 |
| 第三章 二氧化钛/羟基磷灰石复合光催化剂的制备以及去除NO_x光催化性能的研究 | 第37-51页 |
| 3.1 前言 | 第37-38页 |
| 3.2 实验部分 | 第38-39页 |
| 3.3 结构与讨论 | 第39-50页 |
| 3.3.1 XRD结果分析 | 第39页 |
| 3.3.2 FTIR图谱分析 | 第39-40页 |
| 3.3.3 XPS分析 | 第40-41页 |
| 3.3.4 形貌分析 | 第41-43页 |
| 3.3.5 比表面积以及孔径分布分析 | 第43-44页 |
| 3.3.6 光催化活性及稳定性测试 | 第44-46页 |
| 3.3.7 光催化性能提高机理 | 第46-50页 |
| 3.4 小结 | 第50-51页 |
| 第四章 石墨烯（GO）修饰C掺杂TiO_2复合光催化剂的制备及光催化机理研究 | 第51-71页 |
| 4.1 引言 | 第51-52页 |
| 4.2 实验部分 | 第52-53页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第53-69页 |
| 4.3.1 XRD分析 | 第53-54页 |
| 4.3.2 拉曼光谱分析 | 第54-55页 |
| 4.3.3 红外光谱分析 | 第55-56页 |
| 4.3.4 XPS光谱分析 | 第56-57页 |
| 4.3.5 SEM分析 | 第57-58页 |
| 4.3.6 TEM分析 | 第58-59页 |
| 4.3.7 紫外可见漫反射光谱分析 | 第59-60页 |
| 4.3.8 比表面积及孔径分布 | 第60-61页 |
| 4.3.9 催化剂光催化活性评估 | 第61-64页 |
| 4.3.10 TPD图谱分析 | 第64页 |
| 4.3.11 光电化学性质 | 第64-66页 |
| 4.3.12 ESR图谱以及捕获实验分析 | 第66-67页 |
| 4.3.13 催化剂光催化机理分析 | 第67-69页 |
| 4.4 结论 | 第69-71页 |
| 第五章 结论与展望 | 第71-73页 |
| 5.1 结论 | 第71-72页 |
| 5.2 展望 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-81页 |
| 致谢 | 第81-83页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第83页 |
