| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 碳化硅一维纳米材料 | 第10-14页 |
| 1.2.1 碳化硅一维纳米材料结构与性质 | 第10-12页 |
| 1.2.2 碳化硅一维纳米材料的制备 | 第12-14页 |
| 1.3 碳化硅材料热力学分析 | 第14-16页 |
| 1.3.1 热力学分析 | 第14-15页 |
| 1.3.2 碳化硅材料热力学分析研究现状 | 第15-16页 |
| 1.4 课题研究意义、目的与内容 | 第16-18页 |
| 1.4.1 课题研究的意义与目的 | 第16-17页 |
| 1.4.2 课题研究内容 | 第17-18页 |
| 参考文献 | 第18-22页 |
| 第二章 实验与测试表征 | 第22-27页 |
| 2.1 实验材料 | 第22-23页 |
| 2.2 实验设备 | 第23页 |
| 2.3 实验方法 | 第23-25页 |
| 2.3.1 碳化硅纳米线生长热力学分析 | 第23-24页 |
| 2.3.2 碳化硅纳米线制备研究 | 第24-25页 |
| 2.4 测试与表征 | 第25-27页 |
| 第三章 碳化硅纳米线生长热力学分析 | 第27-47页 |
| 3.1 引言 | 第27页 |
| 3.2 碳化硅纳米线生长热力学分析及生长机理研究 | 第27-42页 |
| 3.2.1 Si-C-O体系生长热力学分析及生长机理研究 | 第28-36页 |
| 3.2.2 Si-C-O-H体系生长热力学分析及生长机理研究 | 第36-42页 |
| 3.3 本章小结 | 第42-44页 |
| 参考文献 | 第44-47页 |
| 第四章 碳化硅纳米线的制备研究 | 第47-63页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 实验部分 | 第47-49页 |
| 4.2.1 碳化硅的生长热力学分析指导碳化硅纳米线制备 | 第47-48页 |
| 4.2.2 碳化硅纳米线的制备 | 第48-49页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第49-60页 |
| 4.3.1 封闭体系反应产物分析 | 第49-54页 |
| 4.3.2 敞口体系反应产物分析 | 第54-60页 |
| 4.4 本章小结 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-63页 |
| 第五章 结论与展望 | 第63-65页 |
| 硕士期间学术成果 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
