微加工技术在高精度位移传感器中的应用
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| ·引言 | 第8-10页 |
| ·容栅式位移传感器的工作原理 | 第10-14页 |
| 第二章 微加工制作高精度位移传感器流程 | 第14-26页 |
| ·高精度位移传感器制作与微加工 | 第14-16页 |
| ·微电子加工工艺 | 第16-26页 |
| ·微加工发展历程 | 第16-17页 |
| ·薄膜的生长 | 第17-19页 |
| ·掩模版的制作 | 第19-21页 |
| ·光刻工艺简介 | 第21-23页 |
| ·刻蚀工艺介绍 | 第23-26页 |
| 第三章 磁控溅射实验 | 第26-36页 |
| ·玻璃基片的清洗 | 第26-28页 |
| ·真空系统简介 | 第28-31页 |
| ·磁控溅射镀膜 | 第31-36页 |
| ·磁控溅射原理 | 第31-32页 |
| ·磁控溅射电源 | 第32-33页 |
| ·磁控溅射镀膜工艺流程 | 第33-36页 |
| 第四章 光刻实验 | 第36-42页 |
| ·甩胶过程 | 第36-40页 |
| ·紫外光刻胶 | 第37-39页 |
| ·甩胶参数的确定 | 第39-40页 |
| ·紫外曝光 | 第40-41页 |
| ·显影 | 第41-42页 |
| 第五章 刻蚀实验 | 第42-50页 |
| ·离子束刻蚀(IBE) | 第42-47页 |
| ·离子束刻蚀机结构 | 第43-45页 |
| ·离子束刻蚀参数的确定 | 第45-47页 |
| ·感应耦合等离子体刻蚀(ICP) | 第47-50页 |
| 第六章 总结 | 第50-51页 |
| ·总结 | 第50页 |
| ·展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
| 攻读硕士学位期间申请的专利 | 第55页 |
