| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-23页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第12-13页 |
| ·ZnO 薄膜的制备、性能及应用 | 第13-18页 |
| ·ZnO 薄膜的制备 | 第13-15页 |
| ·ZnO 薄膜的性能与应用 | 第15-16页 |
| ·ZnO 薄膜的研究现状 | 第16-18页 |
| ·一维棒状 ZnO 的制备、性能及应用 | 第18-21页 |
| ·一维棒状 ZnO 的制备技术 | 第18-19页 |
| ·一维棒状 ZnO 的应用及性能 | 第19-20页 |
| ·一维棒状 ZnO 的研究现状 | 第20-21页 |
| ·ZnO 基稀磁半导体 | 第21页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第21-23页 |
| 第2章 ZnO 薄膜的制备及分析测试技术 | 第23-27页 |
| ·薄膜制备装置 | 第23-24页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第24-25页 |
| ·靶材制备 | 第24页 |
| ·衬底的选择及预处理过程 | 第24-25页 |
| ·ZnO 薄膜制备方法及工艺条件 | 第25页 |
| ·ZnO 薄膜表征方法 | 第25-27页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第25页 |
| ·扫描电子显微镜分析 | 第25-26页 |
| ·薄膜电性能测试 | 第26页 |
| ·薄膜的光学性能测试 | 第26页 |
| ·磁性能的测量 | 第26-27页 |
| 第3章 ZnO 薄膜组织结构和性能研究 | 第27-34页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·沉积气压对 ZnO 薄膜结构的影响 | 第27-30页 |
| ·沉积气压对 ZnO 薄膜性能的影响 | 第30-33页 |
| ·光学性能 | 第30-31页 |
| ·由导带-价带本征吸收求带隙 | 第31-33页 |
| ·电学性能 | 第33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第4章 Co 掺杂对 ZnO 薄膜的结构和性能的影响 | 第34-46页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·工艺条件及掺杂浓度对 ZnO 薄膜结构的影响 | 第34-38页 |
| ·Co 元素掺杂浓度对薄膜结构与形貌的影响 | 第34-35页 |
| ·氧气压对薄膜的结构和形貌的影响 | 第35-36页 |
| ·衬底温度对薄膜结构和形貌的影响 | 第36-38页 |
| ·在空气中静置一段时间后的结构及形貌变化 | 第38-40页 |
| ·制备工艺与 Co 掺杂对薄膜光学性能的影响 | 第40-45页 |
| ·Co 掺杂浓度对光学性能的影响 | 第40-42页 |
| ·氧气压对光学性能的影响 | 第42-44页 |
| ·衬底温度对光学性能的影响 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第5章 Al 掺杂对 ZnO 薄膜的结构和性能的影响 | 第46-54页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·Al 元素掺杂浓度对薄膜结构与结晶性的影响 | 第46-48页 |
| ·Al 元素掺杂浓度对薄膜性能的影响 | 第48-49页 |
| ·光学性能 | 第48-49页 |
| ·电学性能 | 第49页 |
| ·Al/ZnO 双层膜的结构与性能 | 第49-53页 |
| ·Al/ZnO 双层膜及其退火后的结构 | 第50-52页 |
| ·Al/ZnO 双层膜及其退火后对薄膜光学性能的影响 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第6章 ZnO 纳米棒的制备与性能研究 | 第54-63页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·ZnO 纳米棒的制备与表征 | 第54-58页 |
| ·溶胶-凝胶法制备 ZnO 纳米棒 | 第54页 |
| ·ZnO 纳米棒的结构分析与形貌表征 | 第54-57页 |
| ·ZnO 纳米棒的光学性能 | 第57-58页 |
| ·Zn_(0.9)Ni_(0.1)O 稀磁半导体的制备与表征 | 第58-62页 |
| ·Zn_(0.9)Ni_(0.1)O 稀磁半导体的制备 | 第58页 |
| ·Zn_(0.9)Ni_(0.1)O 稀磁半导体的结构表征 | 第58-60页 |
| ·Zn_(0.9)Ni_(0.1)O 的磁学性质 | 第60-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 附录 A 攻读硕士期间所发表的学术论文目录 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
