反射型光纤氢气传感器及氢敏性能测试
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 1 绪论 | 第9-16页 |
| ·研究背景 | 第9页 |
| ·论文的背景介绍 | 第9页 |
| ·课题来源 | 第9页 |
| ·问题的提出及研究意义 | 第9-10页 |
| ·问题的提出 | 第9-10页 |
| ·研究的意义 | 第10页 |
| ·光纤氢气传感器概述 | 第10-11页 |
| ·光纤氢气传感器的工作原理 | 第10页 |
| ·光纤氢气传感器的特点 | 第10-11页 |
| ·国内外研究现状 | 第11-15页 |
| ·光纤氢气传感器的研究 | 第11-14页 |
| ·氢敏薄膜制备方法的研究 | 第14-15页 |
| ·主要研究内容 | 第15-16页 |
| 2 反射型光纤氢气传感器的理论基础 | 第16-24页 |
| ·掺杂 WO_3薄膜氢敏机理 | 第16-17页 |
| ·反射式氢气传感器的基本工作原理 | 第17-18页 |
| ·反射式光纤氢气传感器的理论基础 | 第18-21页 |
| ·反射式强度调制 | 第18-19页 |
| ·光在介质分界面上的全反射 | 第19-20页 |
| ·光纤束探头结构 | 第20-21页 |
| ·反射式光纤氢气传感器的光学建模 | 第21-23页 |
| ·本章小结 | 第23-24页 |
| 3 反射型光纤氢气传感器系统设计 | 第24-33页 |
| ·总体方案设计 | 第24页 |
| ·光源的选择 | 第24-27页 |
| ·USB-DT 的特点 | 第25-26页 |
| ·驱动 | 第26-27页 |
| ·光纤光谱仪的选择 | 第27-30页 |
| ·反射型光纤探头的选择 | 第30-31页 |
| ·光源、光谱仪与光纤探头的耦合 | 第31页 |
| ·本章小结 | 第31-33页 |
| 4 掺钯的 WO_3薄膜制备与表征 | 第33-49页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·薄膜制备原理 | 第33-34页 |
| ·三氧化钨溶胶的制备原理 | 第33页 |
| ·薄膜成形方法 | 第33-34页 |
| ·薄膜制备实验 | 第34-37页 |
| ·溶胶的制备 | 第34-35页 |
| ·薄膜的制备 | 第35-37页 |
| ·制备过程中的问题和讨论 | 第37-40页 |
| ·基片的洁净度问题 | 第37页 |
| ·掺杂问题 | 第37页 |
| ·旋转涂膜法距离问题 | 第37页 |
| ·热处理问题 | 第37-38页 |
| ·钨酸溶液稳定性的影响因素分析 | 第38-40页 |
| ·溶胶陈化时间与粘度的关系 | 第40页 |
| ·薄膜的表征 | 第40-46页 |
| ·X 射线衍射仪测试 | 第41-43页 |
| ·隧道－原子力显微镜 | 第43-46页 |
| ·三氧化钨掺杂薄膜氢敏机理 XPS 实验 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 5 反射型光纤氢气传感器性能测试 | 第49-56页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·实验仪器和材料 | 第49-50页 |
| ·氢敏性能测试实验 | 第50-55页 |
| ·实验步骤 | 第50-51页 |
| ·实验结果与分析 | 第51-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 6 总结与展望 | 第56-58页 |
| ·总结 | 第56页 |
| ·展望 | 第56-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 附录 | 第63页 |
| A. 作者在攻读学位期间发表的论文目录 | 第63页 |
| B. 作者在攻读学位期间参与的科研项目目录 | 第63页 |
