脉冲偏压电弧离子镀的工艺基础研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-21页 |
| ·课题的背景 | 第10-11页 |
| ·电弧离子镀 | 第11-15页 |
| ·脉冲偏压电弧离子镀 | 第15-19页 |
| ·论文工作的研究内容 | 第19-21页 |
| 2 脉冲偏压电弧离子镀的等离子体负载特性 | 第21-42页 |
| ·等离子体的基本特性 | 第21-24页 |
| ·电弧离子镀实验设备及其检测系统 | 第24-26页 |
| ·直流偏压电弧离子镀的等离子体负载特性 | 第26-27页 |
| ·脉冲偏压电弧离子镀的等离子体负载特性 | 第27-33页 |
| ·脉冲偏压下负载信号的异常现象 | 第27-30页 |
| ·负载信号实验现象的本质分析 | 第30页 |
| ·容性负载的实验验证 | 第30-31页 |
| ·脉冲偏压电弧离子镀等离子体负载特性的仿真分析 | 第31-33页 |
| ·脉冲偏压电弧离子镀等离子体负载的定量描述 | 第33-34页 |
| ·脉冲偏压电弧离子镀等离子体负载的定量计算 | 第34-38页 |
| ·电弧离子镀的等离子体诊断 | 第34-37页 |
| ·等离子体负载中电容与电阻的定量估算 | 第37-38页 |
| ·等离子体负载特性的其它应用 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 3 脉冲偏压电弧离子镀的沉积温度计算 | 第42-53页 |
| ·影响沉积温度的主要因素 | 第42-45页 |
| ·脉冲偏压下离子对基体的轰击 | 第43-44页 |
| ·基体的热辐射和热传导 | 第44-45页 |
| ·沉积温度的计算模型 | 第45-46页 |
| ·工艺与结构参数对沉积温度的影响 | 第46-47页 |
| ·温度计算模型的实验验证 | 第47-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 4 脉冲偏压电弧离子镀的大颗粒净化机制 | 第53-68页 |
| ·脉冲偏压的大颗粒净化现象 | 第53-54页 |
| ·基于等离子体物理的脉冲偏压大颗粒净化机制推测 | 第54-56页 |
| ·脉冲偏压大颗粒净化机制的实验验证 | 第56-59页 |
| ·实验设计与分析方法 | 第56-57页 |
| ·脉冲偏压正交实验结果 | 第57-59页 |
| ·大颗粒在等离子体鞘层中的受力分析与计算 | 第59-66页 |
| ·脉冲偏压等离子体鞘层的物理特性 | 第59-62页 |
| ·大颗粒的带电量 | 第62-63页 |
| ·大颗粒的受力分析 | 第63-64页 |
| ·大颗粒的受力计算 | 第64-66页 |
| ·大颗粒净化机制在纳米多层薄膜工艺中的应用 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 5 脉冲偏压电弧离子镀沉积绝缘薄膜的可行性研究 | 第68-82页 |
| ·沉积TiO_2薄膜的实验设计与实验方法 | 第68-71页 |
| ·TiO_2薄膜沉积实验结果 | 第71-75页 |
| ·TiO_2薄膜的形貌 | 第71-73页 |
| ·TiO_2薄膜的结构与硬度 | 第73-75页 |
| ·实验现象的本质分析 | 第75-79页 |
| ·绝缘基片的脉冲偏压等离子体鞘层动力学模型 | 第76-77页 |
| ·实验现象的本质原因 | 第77-79页 |
| ·脉冲偏压电弧离子镀沉积绝缘薄膜的可行性条件 | 第79-80页 |
| ·本章小结 | 第80-82页 |
| 全文总结 | 第82-84页 |
| 展望 | 第84-92页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第92-94页 |
| 创新点摘要 | 第94-95页 |
| 致谢 | 第95-96页 |
