基于SOC应用的MnZn铁氧体薄膜研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·MnZn 铁氧体薄膜国内外研究现状 | 第12-18页 |
| ·MnZn 铁氧体制备技术发展 | 第12-17页 |
| ·MnZn 铁氧体薄膜性能研究现状 | 第17-18页 |
| ·选课题意义及研究内容 | 第18-21页 |
| ·选本课题的意义 | 第18-19页 |
| ·论文研究内容 | 第19页 |
| ·论文的内容 | 第19-21页 |
| 第二章 薄膜的制备与测试 | 第21-32页 |
| ·M nZn 铁氧体靶材的制备 | 第21-23页 |
| ·原料选取及配料 | 第21页 |
| ·一次球磨 | 第21-22页 |
| ·预烧 | 第22页 |
| ·二次球磨 | 第22页 |
| ·造粒与成型 | 第22页 |
| ·烧结 | 第22-23页 |
| ·MnZn 铁氧体薄膜的制备 | 第23-27页 |
| ·溅射设备 | 第23页 |
| ·设备工作原理 | 第23-24页 |
| ·基片的选择 | 第24页 |
| ·基片的清洗 | 第24-25页 |
| ·薄膜生长机制 | 第25-26页 |
| ·影响薄膜性能的因素 | 第26-27页 |
| ·测试与表征 | 第27-32页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第27-28页 |
| ·X 射线衍射仪(XRD) | 第28-29页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第29-30页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第30-32页 |
| 第三章 退火工艺对薄膜性能的影响 | 第32-55页 |
| ·薄膜性能与退火真空度的关系 | 第33-37页 |
| ·薄膜的相结构与退火真空度的关系 | 第34-35页 |
| ·薄膜的微观形貌与退火真空度的关系 | 第35-36页 |
| ·薄膜的磁性能与退火真空度的关系 | 第36-37页 |
| ·薄膜性能与退火温度的关系 | 第37-43页 |
| ·薄膜相结构与退火温度的关系 | 第37-39页 |
| ·薄膜的微观形貌与退火温度的关系 | 第39-41页 |
| ·薄膜磁性能与退火温度的关系 | 第41-43页 |
| ·薄膜性能与退火氧含量的关系 | 第43-45页 |
| ·薄膜的相结构与退火氧含量的关系 | 第44页 |
| ·薄膜的磁性能与退火氧含量的关系 | 第44-45页 |
| ·薄膜性能与退火升温速率的关系 | 第45-48页 |
| ·薄膜的相结构与升温速率的关系 | 第46页 |
| ·薄膜的微观结构与升温速率的关系 | 第46-47页 |
| ·薄膜的磁性能与升温速率的关系 | 第47-48页 |
| ·真空室和钟罩炉退火薄膜性能比较 | 第48-51页 |
| ·相结构的比较 | 第49-50页 |
| ·微观形貌的比较 | 第50页 |
| ·磁性能的比较 | 第50-51页 |
| ·ZnFe_2O_4 缓冲层对薄膜性能的影响 | 第51-55页 |
| ·缓冲层对薄膜相结构的影响 | 第52-53页 |
| ·缓冲层对薄膜微观形貌的影响 | 第53页 |
| ·缓冲层对薄膜磁性能的影响 | 第53-55页 |
| 第四章 其他因素对薄膜性能的影响 | 第55-65页 |
| ·薄膜厚度对薄膜性能的影响 | 第55-58页 |
| ·薄膜的相结构随薄膜厚度的变化 | 第55-56页 |
| ·薄膜微观形貌随薄膜厚度的变化 | 第56-57页 |
| ·薄膜磁性能随薄膜厚度的变化 | 第57-58页 |
| ·不同组分对薄膜性能的影响 | 第58-60页 |
| ·薄膜的相结构随薄膜组分的变化 | 第58-59页 |
| ·薄膜的磁性能随薄膜组分的变化 | 第59-60页 |
| ·不同基片对薄膜的影响 | 第60-65页 |
| ·不同基片上沉积薄膜的相结构 | 第61-62页 |
| ·不同基片上沉积薄膜的微观形貌 | 第62-64页 |
| ·不同基片上沉积薄膜的磁性能 | 第64-65页 |
| 第五章 结论 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第72-73页 |
