退火处理对LaAlO3薄膜微结构及性能的影响
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-22页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·研究背景及意义 | 第12-13页 |
| ·国内外研究进展 | 第13-20页 |
| ·氮化物研究 | 第15页 |
| ·金属氧化物研究 | 第15-16页 |
| ·二元合金体系研究 | 第16-17页 |
| ·LaAlO_3 薄膜研究 | 第17-20页 |
| ·本文主要的研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 薄膜的制备与退火处理 | 第22-37页 |
| ·引言 | 第22页 |
| ·薄膜的生长 | 第22-27页 |
| ·薄膜的生长过程与机理 | 第22-25页 |
| ·影响薄膜生长的因素 | 第25-27页 |
| ·薄膜的制备 | 第27-32页 |
| ·常用的薄膜制备方法 | 第27-29页 |
| ·制膜设备简介 | 第29-30页 |
| ·衬底处理 | 第30页 |
| ·制备步骤 | 第30-31页 |
| ·薄膜厚度测量 | 第31页 |
| ·电极制备 | 第31-32页 |
| ·薄膜的后处理 | 第32-35页 |
| ·退火处理技术 | 第32页 |
| ·后退火处理系统简介 | 第32-33页 |
| ·退火实验一 | 第33-35页 |
| ·退火实验二 | 第35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 第三章 LAALO_3薄膜微结构及性能的研究 | 第37-54页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·XRD 结果分析 | 第37-41页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第37-38页 |
| ·分析与结论 | 第38-41页 |
| ·XPS 结果分析 | 第41-47页 |
| ·X 射线光电子能谱分析 | 第41-43页 |
| ·分析与结论 | 第43-47页 |
| ·SEM 与EDS 结果分析 | 第47-51页 |
| ·扫描电子显微分析 | 第47-49页 |
| ·能量色散谱仪 | 第49页 |
| ·分析与结论 | 第49-51页 |
| ·电学性能研究 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 总结与展望 | 第54-56页 |
| ·总结 | 第54-55页 |
| ·展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第61页 |
