| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-28页 |
| ·SiC 发展历史、国内外研究现状 | 第14-18页 |
| ·SiC 材料的发展史 | 第14-15页 |
| ·SiC 材料的国内外研究现状 | 第15-18页 |
| ·SiC 的晶体结构、特性及应用 | 第18-22页 |
| ·SiC 的晶体结构 | 第18-20页 |
| ·SiC 的物理和化学性质 | 第20-21页 |
| ·SiC 的应用 | 第21-22页 |
| ·SiC 材料的制备方法 | 第22-26页 |
| ·物理气相沉积(PVD) | 第22-24页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第24-26页 |
| ·本文的研究思路和主要内容 | 第26-28页 |
| 第二章 薄膜的制备与表征 | 第28-45页 |
| ·概述 | 第28-29页 |
| ·溅射原理及其成膜方法 | 第29-33页 |
| ·溅射镀膜 | 第29-31页 |
| ·射频溅射原理 | 第31-32页 |
| ·磁控溅射原理 | 第32-33页 |
| ·射频磁控溅射技术的特点 | 第33页 |
| ·实验材料与设备 | 第33-37页 |
| ·实验原料 | 第33-34页 |
| ·实验设备 | 第34-37页 |
| ·样品的制备 | 第37-39页 |
| ·基片的清洗 | 第37页 |
| ·样品的溅射成膜 | 第37-38页 |
| ·样品的退火处理 | 第38-39页 |
| ·样品的基本表征方法 | 第39-45页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第39-40页 |
| ·X 射线衍射分析(XRD) | 第40页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第40-41页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第41-42页 |
| ·傅立叶红外光谱仪（FTIR） | 第42页 |
| ·紫外-可见分光光度计 | 第42-43页 |
| ·荧光光谱仪 | 第43-45页 |
| 第三章 掺MN 对 SIC 薄膜结构和光学性能的影响 | 第45-51页 |
| ·SIC:MN 薄膜的结构和形貌 | 第45-48页 |
| ·SIC:MN 薄膜的光学性能 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 掺 CO 对SIC 薄膜结构和光学性能的影响 | 第51-55页 |
| ·SIC:CO 薄膜的结构和形貌 | 第51-52页 |
| ·SIC:CO 薄膜的光学性能 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 CO、MN 共掺对SIC 薄膜结构和光学性能的影响 | 第55-59页 |
| ·SIC:(MN,CO)薄膜的结构和形貌 | 第55-56页 |
| ·SIC:(MN,CO)薄膜光学性能 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第六章 SI/C 比对A-SI_(1-X)C_X 光学性能的影响 | 第59-67页 |
| ·实验过程与方法 | 第59-60页 |
| ·A-Si_(1-X)C_X 薄膜的制备研究及SI-C 键的形成 | 第60-63页 |
| ·A-Si_(1-X)C_X 薄膜的光学性能与成键关系研究 | 第63-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第七章 总结与展望 | 第67-69页 |
| ·研究总结 | 第67-68页 |
| ·展望 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 附录 | 第74页 |
