中文摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-12页 |
第1章 绪论 | 第12-28页 |
·研究背景 | 第12-13页 |
·TiO_2光催化基本概念及原理 | 第13-15页 |
·光催化活性的影响因素 | 第15-17页 |
·晶体结构的影响 | 第15-16页 |
·晶格缺陷的影响 | 第16页 |
·溶液pH值影响 | 第16页 |
·晶粒尺寸的影响 | 第16-17页 |
·TiO_2光催化剂改性技术 | 第17-18页 |
·非金属掺杂改性TiO_2的研究现状 | 第18-24页 |
·N掺杂TiO_2的研究现状 | 第18-21页 |
·S掺杂TiO_2改性研究概述 | 第21-22页 |
·C掺杂TiO_2研究概述 | 第22-24页 |
·TiO_2薄膜表面的润湿性能研究现状 | 第24-26页 |
·选题的目的和意义 | 第26-27页 |
·本研究的依据、总体思路和研究内容 | 第27-28页 |
第二章 F-N共掺杂TiO_2催化剂的低温制备及其结构性能研究 | 第28-67页 |
·引言 | 第28-30页 |
·不同NH_4F添加量对低温制备F-N共掺杂TiO_2结构及性能的影响 | 第30-43页 |
·催化剂的制备 | 第30-31页 |
·材料结构及光催化活性的表征 | 第31-34页 |
·结果与讨论 | 第34-43页 |
·不同反应温度对F-N共掺TiO_2催化剂的结构性能的影响 | 第43-50页 |
·催化剂制备与表征方法 | 第43页 |
·结果与讨论 | 第43-48页 |
·低温制备机理的探讨 | 第48-50页 |
·CTAB对F-N共掺介孔TiO_2催化剂结构性能的影响 | 第50-61页 |
·引言 | 第50-51页 |
·催化剂制备与表征方法 | 第51-52页 |
·结果与讨论 | 第52-61页 |
·F-N共掺杂TiO_2可见光响应机理 | 第61-65页 |
·小结 | 第65-67页 |
第三章 N掺杂及N-S共掺杂TiO_2的低温制备、表征及其性能研究 | 第67-82页 |
·硫脲添加量对N掺杂及N-S共掺杂TiO_2结构性能的影响 | 第67-75页 |
·催化剂制备 | 第67-69页 |
·光催化剂结构及光催化活性表征 | 第69页 |
·结果与讨论 | 第69-75页 |
·不同反应温度对S-N共掺TiO_2催化剂结构及性能的影响 | 第75-81页 |
·催化剂制备 | 第75页 |
·催化剂表征及催化活性的测试 | 第75-76页 |
·结果与讨论 | 第76-80页 |
·S掺杂TiO_2的可见光响应机理 | 第80-81页 |
·小结 | 第81-82页 |
第4章 溶胶-凝胶法制备C掺杂TiO_2粉末和薄膜催化剂及其结构性能研究 | 第82-103页 |
·引言 | 第82页 |
·退火温度对C掺杂TiO_2粉末催化剂结构性能的影响 | 第82-87页 |
·催化剂的制备 | 第82-83页 |
·材料的表征 | 第83-84页 |
·结果与讨论 | 第84-87页 |
·锐钛矿型C掺杂TiO_2溶胶及粉末的低温制备与结构性能 | 第87-94页 |
·样品制备方法 | 第87-88页 |
·材料结构表征与催化活性的测试 | 第88页 |
·结果与讨论 | 第88-94页 |
·C掺杂TiO_2薄膜的制备与表征 | 第94-102页 |
·C掺杂TiO_2薄膜的制备 | 第94页 |
·薄膜结构及光催化活性表征 | 第94-95页 |
·结果与讨论 | 第95-102页 |
·小结 | 第102-103页 |
第5章 C修饰TiO_2薄膜的磁控溅射法制备及其表面结构性能研究 | 第103-123页 |
·前言 | 第103-106页 |
·氧气分压对C修饰TiO_2薄膜及其表面结构性能的影响 | 第106-116页 |
·薄膜的制备 | 第106-107页 |
·薄膜的结构及润湿角测试表征 | 第107页 |
·结果与讨论 | 第107-116页 |
·不同溅射功率制备薄膜的表面结构和润湿性能 | 第116-122页 |
·薄膜制备 | 第116页 |
·结果与讨论 | 第116-119页 |
·C修饰TiO_2薄膜的生长机理分析 | 第119-122页 |
·小结 | 第122-123页 |
第六章 结论、问题及展望 | 第123-126页 |
·结论 | 第123-124页 |
·问题及展望 | 第124-126页 |
参考文献 | 第126-140页 |
发表和待发表文章目录 | 第140-142页 |
致谢 | 第142页 |