| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 概述 | 第10-32页 |
| ·高电荷态离子的特性及用途 | 第10-11页 |
| ·高电荷态离子的产生 | 第11-16页 |
| ·自然界中的高电荷态离子 | 第11页 |
| ·加速器产生的高电荷态离子 | 第11-12页 |
| ·离子源产生的高电荷态离子 | 第12-16页 |
| ·高电荷态离子与固体相互作用的过程 | 第16-19页 |
| ·高电荷态离子物理的研究进展 | 第19-31页 |
| ·高电荷态离子与固体相互作用实验 | 第19-26页 |
| ·高电荷态离子与固体作用的理论模型 | 第26-31页 |
| ·课题的提出 | 第31-32页 |
| 第二章 等离子体分析和溅射实验的装置 | 第32-54页 |
| ·ECR源和溅射实验介绍 | 第32-42页 |
| ·ECR源工作原理 | 第32-38页 |
| ·溅射试验设备 | 第38-42页 |
| ·靶材料的制备: | 第42页 |
| ·EBIT系统介绍: | 第42-46页 |
| ·EBIT的工作原理: | 第42-44页 |
| ·气体注入系统: | 第44-45页 |
| ·X射线探测系统: | 第45-46页 |
| ·供电系统: | 第46页 |
| ·离子引出和离子分辨系统: | 第46页 |
| ·Wien filter分析系统的测试 | 第46-54页 |
| ·Wien filter的原理 | 第47-49页 |
| ·Wien filter实验结果 | 第49-52页 |
| ·Wien filter的控制和解谱软件 | 第52-54页 |
| 第三章 束流的引出和诊断 | 第54-86页 |
| ·电子束离子阱中的等离子体分布 | 第54-61页 |
| ·电子束的空间电势 | 第54-57页 |
| ·离子在电子束离子阱中的分布 | 第57-58页 |
| ·离子在阱区的温度分布和传递 | 第58-61页 |
| ·离子源参数对束流的影响 | 第61-69页 |
| ·电子能量与电子束流密度的关系 | 第61-63页 |
| ·电子能量对输出离子强度的影响 | 第63-64页 |
| ·阱区的气压对束流输出 | 第64-66页 |
| ·势阱深度对束流强度的影响 | 第66-68页 |
| ·引出电压对输出总电流的影响 | 第68-69页 |
| ·高电荷态离子诊断 | 第69-86页 |
| ·通过X射线鉴别高电荷态离子 | 第69-80页 |
| ·离子的电荷态随时间演化 | 第80-86页 |
| 第四章 溅射实验 | 第86-111页 |
| ·Ar~(q+)/Pb~(q+)离子轰击固体表面引发的溅射实验 | 第86-101页 |
| ·Ar~(q+)/Pb~(q+)离子轰击半导体表面引发的溅射产额的角分布 | 第86-92页 |
| ·溅射产额与入射离子能量关系 | 第92-97页 |
| ·溅射产额与离子势能的关系 | 第97-100页 |
| ·高电荷态离子与低电荷态离子溅射产额之比 | 第100-101页 |
| ·理论分析与讨论 | 第101-109页 |
| ·动能势能共同作用模型 | 第102-104页 |
| ·动能势能共同作用模型与实验结果对比 | 第104-109页 |
| ·模型成功和不足 | 第109-111页 |
| 第五章 全文总结 | 第111-113页 |
| 附录1 WIEN FILTER控制和解谱软件界面 | 第113-116页 |
| 参考文献 | 第116-121页 |
| 发表论文 | 第121-123页 |
| 致谢 | 第123页 |