| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-28页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·多孔硅的形成与研究进展 | 第8-17页 |
| ·多孔硅的制备方法 | 第8-10页 |
| ·多孔硅的形成机理 | 第10-12页 |
| ·多孔硅的研究进展 | 第12-17页 |
| ·基于多孔硅的生物传感技术 | 第17-27页 |
| ·生物传感器的研究进展 | 第17-21页 |
| ·光学型生物传感器的研究现状 | 第21-25页 |
| ·基于多孔硅生物传感技术的研究现状 | 第25-27页 |
| ·论文研究目的及主要内容 | 第27-28页 |
| ·研究目的 | 第27页 |
| ·主要内容 | 第27-28页 |
| 2 实验 | 第28-34页 |
| ·热氧化多孔硅的制备 | 第28-30页 |
| ·仪器、材料与试剂 | 第28页 |
| ·制备流程及装置图 | 第28-30页 |
| ·热氧化多孔硅反射干涉光谱的测定与光学厚度的计算 | 第30-31页 |
| ·热氧化多孔硅的理化性质表征 | 第31-32页 |
| ·结构参数测定 | 第31页 |
| ·微观结构 | 第31-32页 |
| ·成分分析 | 第32页 |
| ·热氧化多孔硅生物传感实验 | 第32-34页 |
| ·生物试剂的来源 | 第32页 |
| ·缓冲溶液的制取 | 第32页 |
| ·生物传感实验 | 第32-33页 |
| ·传感器性能评价实验 | 第33-34页 |
| 3 结果与讨论 | 第34-48页 |
| ·不同阳极氧化条件下多孔硅孔隙率与厚度的变化 | 第34-37页 |
| ·阳极氧化过程电压随时间的变化规律 | 第34页 |
| ·阳极氧化条件对孔隙率的影响 | 第34-36页 |
| ·阳极氧化条件对厚度的影响 | 第36-37页 |
| ·电化学阳极氧化条件对热氧化多孔硅干涉及光学厚度的影响 | 第37-43页 |
| ·阳极氧化时间对热氧化多孔硅干涉特性与光学厚度的影响 | 第37-39页 |
| ·电流密度对热氧化多孔硅干涉特性与光学厚度的影响 | 第39-40页 |
| ·HF 浓度对热氧化多孔硅干涉及光学厚度的影响 | 第40-41页 |
| ·电化学阳极氧化条件的优化 | 第41-43页 |
| ·热氧化处理前后多孔硅稳定性分析 | 第43-44页 |
| ·热氧化处理前后多孔硅成分分析 | 第43页 |
| ·热氧化处理前后光学厚度的变化 | 第43-44页 |
| ·热氧化多孔硅生物传感器的传感性能测试及评价 | 第44-48页 |
| ·定性分析 | 第45页 |
| ·定量分析 | 第45-46页 |
| ·抗原-抗体亲和常数的计算 | 第46-47页 |
| ·兔IgG 浓度对热氧化多孔硅光学厚度的影响 | 第47-48页 |
| 4 结论与展望 | 第48-50页 |
| ·结论 | 第48-49页 |
| ·展望 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-56页 |
| 附录 | 第56页 |