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电子倍增CCD的倍增机制及其在光子计数成像的应用

摘要第1-7页
Abstract第7-12页
1.绪论第12-24页
   ·微光成像技术第12-20页
     ·真空微光成像器件的发展与现状第13-17页
     ·微光电荷雪崩图像传感器的发展第17-20页
   ·研究背景和目的第20-21页
   ·创新点分析和研究内容第21-24页
     ·本文创新点分析第21-22页
     ·本文的研究内容第22-24页
2.CCD物理基础第24-42页
   ·MOS器件的物理基础第24-32页
     ·埋层沟道MOS器件的物理基础第24-25页
     ·埋层沟道MOS器件的电势分布模型第25-32页
   ·CCD的噪声第32-38页
     ·CCD的噪声类型第33-36页
     ·CCD的信噪比第36-38页
   ·CCD信噪比改善途径第38-41页
     ·CCD信噪比改善第38页
     ·电子倍增CCD概述第38-40页
     ·信噪比评价第40-41页
   ·本章小结第41-42页
3.碰撞电离模型第42-69页
   ·碰撞电离模型第43-46页
     ·碰撞电离阂值第44页
     ·碰撞电离率第44-45页
     ·局部场理论第45页
     ·非局部场理论第45-46页
     ·散粒噪声抑制理论第46页
   ·高增益模式的增益统计特性第46-55页
     ·倍增寄存器的增益统计模型第47-53页
     ·输出电荷数的概率密度函数第53-55页
   ·普通增益模式的倍增噪声模型第55-63页
     ·"盲区"效应模型第55-57页
     ·模型验证第57-60页
     ·电子倍增CCD的额外噪声因子第60-61页
     ·倍增噪声的优化第61-63页
   ·实验与分析第63-67页
     ·电子倍增CCD的测试第63-67页
   ·本章小结第67-69页
4.成像模型与模拟第69-96页
   ·信号电荷转移模型第69-82页
     ·电荷转移模型第69-77页
     ·MTF测试与分析第77-80页
     ·模型验证第80-82页
   ·电子倍增CCD的数学模型第82-94页
     ·电子倍增CCD噪声源分析第82-85页
     ·成像模型第85-87页
     ·实验与分析第87-94页
   ·本章小结第94-96页
5.光子计数成像原理第96-115页
   ·光子计数成像原理第96-97页
   ·电子倍增CCD的光子响应模型第97-106页
     ·电子倍增CCD的连续光子响应特性第97-100页
     ·电子倍增CCD的离散单光子响应特性第100-101页
     ·电子倍增CCD单光子探测的实例分析第101-104页
     ·实例计算结果第104-105页
     ·计算结果分析第105-106页
   ·单光子探测阈值原理第106-114页
     ·阈值选取原则第106-108页
     ·双重闽值原理第108-111页
     ·A类集合筛选阈值选取第111-112页
     ·B类集合筛选阈值选取第112-114页
   ·本章小结第114-115页
6.单光子探测与成像实验第115-153页
   ·单光子探测实验与误差分析第115-130页
     ·实验方案第115-116页
     ·伪光子事件噪声分析第116-122页
     ·光子事件探测效率分析第122-130页
   ·光子计数成像实验第130-151页
     ·双重阈值在光子计数模式中的应用第130-131页
     ·光子计数成像实验一第131-138页
     ·光子计数成像实验二第138-145页
     ·光子事件频率测试实验第145-151页
   ·本章小结第151-153页
7 结束语第153-155页
致谢第155-156页
参考文献第156-163页
附录第163页

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