卟啉类色敏传感器敏感薄膜制备及性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-16页 |
| ·课题的研究背景及意义 | 第10-11页 |
| ·国内外研究现状及分析 | 第11-13页 |
| ·薄膜阵列成像原理及课题理论依据 | 第13-16页 |
| 第二章 基本原理与实验方法 | 第16-36页 |
| ·卟啉的分子结构与吸收光谱特征 | 第16-17页 |
| ·卟啉化合物的主要应用 | 第17-18页 |
| ·卟啉及其配合物在光度分析中的应用 | 第17页 |
| ·卟啉及其配合物在分子识别中的应用 | 第17-18页 |
| ·颜色空间的变换 | 第18-21页 |
| ·RGB 颜色空间 | 第18-19页 |
| ·HSV 颜色空间 | 第19-21页 |
| ·图像传感器与数据采集 | 第21-25页 |
| ·电荷耦合器件 | 第22页 |
| ·CMOS 图像传感器 | 第22-24页 |
| ·其它类型的图像传感器 | 第24-25页 |
| ·超薄膜主要制备方法简介 | 第25-30页 |
| ·旋涂法 | 第25页 |
| ·真空镀膜 | 第25页 |
| ·自组装法 | 第25-26页 |
| ·Langmuir-Blodgett（LB）膜法 | 第26-30页 |
| ·主要分析测试原理简介 | 第30-36页 |
| ·表面压－面积曲线的测定 | 第30页 |
| ·紫外－可见分光光度法（UV-Vis）原理 | 第30-33页 |
| ·原子力显微镜（AFM）原理 | 第33-34页 |
| ·布鲁斯特角显微镜（BAM）原理 | 第34-36页 |
| 第三章 制备及测试方法 | 第36-42页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·实验材料及设备 | 第36-37页 |
| ·主要材料与试剂 | 第36-37页 |
| ·主要实验设备 | 第37页 |
| ·基片处理及材料合成 | 第37-38页 |
| ·基片清洗与表面处理 | 第37页 |
| ·四苯基卟啉铜（CuTPP）的合成 | 第37-38页 |
| ·金属卟啉LB 薄膜的制备 | 第38-40页 |
| ·实验材料及铺展溶剂的选择 | 第38页 |
| ·基片的表面处理 | 第38-39页 |
| ·实验过程 | 第39-40页 |
| ·薄膜测试方法 | 第40-42页 |
| ·薄膜成膜特性表征方法 | 第40-41页 |
| ·薄膜气敏特性的测试方法 | 第41-42页 |
| 第四章 薄膜成膜及性能研究 | 第42-66页 |
| ·单分子层膜的研究 | 第42-46页 |
| ·辅助成膜剂对单分子层膜的影响 | 第42-45页 |
| ·不同表面压下的单分子层膜的表面形貌表征 | 第45-46页 |
| ·CuTPP LB 薄膜的研究 | 第46-52页 |
| ·CuTPP LB 薄膜的光谱表征 | 第46-49页 |
| ·CuTPP LB 薄膜气敏特性的研究 | 第49-52页 |
| ·ZnTPP LB 薄膜的研究 | 第52-63页 |
| ·ZnTPP LB 薄膜的光谱表征 | 第52-54页 |
| ·ZnTPP LB 薄膜的 AFM 表征 | 第54-55页 |
| ·ZnTPP LB 薄膜的气敏特性的研究 | 第55-63页 |
| ·薄膜与气体相互作用理论研究 | 第63-66页 |
| 第五章 总结与展望 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 研究生期间所获成果 | 第72-73页 |
