金刚石薄膜表面的含氧基修饰研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-14页 |
| ·金刚石的结构和特性 | 第9-11页 |
| ·金刚石的结构 | 第9-10页 |
| ·金刚石的特性 | 第10-11页 |
| ·金刚石薄膜的国内外发展动态 | 第11-13页 |
| ·CVD 金刚石薄膜的研究历程 | 第11-12页 |
| ·金刚石薄膜的国内外研究现状 | 第12-13页 |
| ·课题的提出及研究内容 | 第13页 |
| ·课题的提出 | 第13页 |
| ·课题的研究内容 | 第13页 |
| ·本章小结 | 第13-14页 |
| 第二章 金刚石薄膜电极的制备 | 第14-26页 |
| ·CVD 金刚石薄膜成膜机理概述 | 第14页 |
| ·CVD 金刚石薄膜的主要制备方法 | 第14-18页 |
| ·金刚石薄膜电极的制备实验 | 第18-21页 |
| ·热丝化学气相沉积法制备金刚石薄膜电极的实验装置 | 第18-19页 |
| ·热丝化学气相沉积法制备金刚石薄膜电极的实验步骤 | 第19-21页 |
| ·掺硼金刚石薄膜的物理性质表征 | 第21-25页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第21-22页 |
| ·拉曼光谱 | 第22-23页 |
| ·X-射线衍射(XRD) | 第23-24页 |
| ·金刚石膜的其他常用表征方式 | 第24-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 金刚石薄膜电极的修饰方法 | 第26-33页 |
| ·金刚石电极电化学性能 | 第26-29页 |
| ·金刚石电极的宽电化学势窗和低背景电流 | 第26-28页 |
| ·金刚石电极优异的物理及化学稳定性 | 第28-29页 |
| ·金刚石表面实施化学修饰的基本策略 | 第29-32页 |
| ·卤素修饰 | 第29页 |
| ·含氧基修饰 | 第29-30页 |
| ·有机(生物)分子的修饰 | 第30-31页 |
| ·金刚石表面的金属粒子及金属氧化物修饰 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第四章 金刚石薄膜含氧基的引入与性质 | 第33-42页 |
| ·含氧基的引入实验及分析 | 第33-38页 |
| ·实验仪器及材料 | 第33页 |
| ·实验步骤 | 第33-34页 |
| ·实验结果及数据分析 | 第34页 |
| ·检测图像 | 第34-37页 |
| ·含氧键分析 | 第37-38页 |
| ·氧修饰金刚石薄膜的性质 | 第38-39页 |
| ·氧吸附金刚石薄膜表面表征 | 第38页 |
| ·氧吸附金刚石薄膜表面的电化学性能 | 第38-39页 |
| ·含氧基修饰的金刚石薄膜应用 | 第39-41页 |
| ·检测抗坏血酸（AA）中的尿酸（UA） | 第39-40页 |
| ·对其他物质的检测 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第五章 结论 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-48页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
