| 摘要 | 第8-9页 |
| ABSTRACT | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 半导体光催化背景 | 第11-12页 |
| 1.2 二氧化钛光催化材料 | 第12-17页 |
| 1.2.1 二氧化钛的介绍 | 第12-13页 |
| 1.2.2 二氧化钛的制备方法 | 第13-14页 |
| 1.2.2.1 溶胶-凝胶法 | 第13页 |
| 1.2.2.2 微乳液法 | 第13-14页 |
| 1.2.2.3 水热合成法与溶剂热法 | 第14页 |
| 1.2.2.4 气相法 | 第14页 |
| 1.2.3 二氧化钛光催化剂活性提高的办法 | 第14-17页 |
| 1.2.3.1 掺杂 | 第14-15页 |
| 1.2.3.2 晶面调控 | 第15-16页 |
| 1.2.3.3 半导体复合 | 第16-17页 |
| 1.3 铋系光催化剂材料 | 第17-23页 |
| 1.3.1 铋系光催化剂的介绍 | 第17-20页 |
| 1.3.2 铋系光催化剂活性提高的办法 | 第20-23页 |
| 1.3.2.1 半导体敏化 | 第20-21页 |
| 1.3.2.2 贵金属负载 | 第21-22页 |
| 1.3.2.3 形貌调控 | 第22-23页 |
| 1.4 本论文的选题依据和主要内容 | 第23-24页 |
| 第二章 硅掺杂高能(001)晶面二氧化钛纳米晶体的研究 | 第24-35页 |
| 2.1 引言 | 第24-25页 |
| 2.2 实验部分 | 第25-27页 |
| 2.2.1 试剂与仪器 | 第25页 |
| 2.2.2 催化剂的制备 | 第25-26页 |
| 2.2.2.1 暴露(001)高能晶面锐钛矿TiO2的制备 | 第25-26页 |
| 2.2.2.2 二氧化硅的合成 | 第26页 |
| 2.2.2.3 硅掺杂二氧化钛纳米晶体的制备 | 第26页 |
| 2.2.3 样品表征 | 第26-27页 |
| 2.2.4 光催化性能研究 | 第27页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第27-34页 |
| 2.3.1 晶相结构与形貌 | 第27-29页 |
| 2.3.2 样品组分分析 | 第29-30页 |
| 2.3.3 紫外可见漫反射光谱分析 | 第30-31页 |
| 2.3.4 比表面积和孔径分布分析 | 第31-32页 |
| 2.3.5 光催化性能测试 | 第32-33页 |
| 2.3.6 光生载流子的传输性能 | 第33-34页 |
| 2.4 本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 Bi_2WO_6通过离子交换法原位转化成Bi_2WO_6@Bi_2S_3异质结纳米片 | 第35-46页 |
| 3.1 引言 | 第35-36页 |
| 3.2 实验部分 | 第36-38页 |
| 3.2.1 试剂与仪器 | 第36页 |
| 3.2.2 样品制备 | 第36-37页 |
| 3.2.3 样品表征 | 第37页 |
| 3.2.4 光电化学性能测试 | 第37页 |
| 3.2.5 催化剂活性测试 | 第37-38页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第38-45页 |
| 3.3.1 形貌分析 | 第38-39页 |
| 3.3.2 XRD分析 | 第39页 |
| 3.3.3 紫外可见漫反射图谱 | 第39-40页 |
| 3.3.4 光生载流子的传输性能 | 第40-41页 |
| 3.3.5 XPS分析 | 第41页 |
| 3.3.6 氮气吸附-脱附等温线 | 第41-42页 |
| 3.3.7 光催化性能 | 第42-43页 |
| 3.3.8 光催化反应机理 | 第43-44页 |
| 3.3.9 催化剂的稳定性探究 | 第44-45页 |
| 3.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 结论与展望 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文 | 第61-62页 |
| 附录B 攻读硕士期间所获奖励 | 第62页 |
