摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第14-26页 |
1.1 MEMS技术概述 | 第14-15页 |
1.2 MEMS真空封装 | 第15-17页 |
1.2.1 真空封装的必要性 | 第15-16页 |
1.2.2 真空封装存在的问题 | 第16页 |
1.2.3 MEMS真空封装的研究现状 | 第16-17页 |
1.3 吸气剂技术 | 第17-24页 |
1.3.1 吸气剂及吸气机理 | 第18-19页 |
1.3.2 MEMS吸气剂国内外研究现状 | 第19-23页 |
1.3.3 MEMS吸气剂的发展趋势及存在问题 | 第23-24页 |
1.4 课题意义和论文内容 | 第24-26页 |
1.4.1 课题意义 | 第24-25页 |
1.4.2 研究内容 | 第25-26页 |
第二章 非蒸散型吸气剂测试系统设计 | 第26-42页 |
2.1 吸气剂真空测试系统基本理论 | 第26-32页 |
2.1.1 吸气剂测试系统原理 | 第26-29页 |
2.1.2 真空系统设计的主要参数 | 第29-32页 |
2.2 测试系统设计参数分析与计算 | 第32-36页 |
2.2.1 设计依据 | 第32-33页 |
2.2.2 真空泵选型 | 第33-34页 |
2.2.3 微区电磁感应加热分析 | 第34-36页 |
2.3 测试系统的结构设计与构建 | 第36-39页 |
2.3.1 系统总体结构 | 第36-37页 |
2.3.2 部分真空部件设计与选型 | 第37-39页 |
2.4 系统搭建 | 第39-40页 |
2.5 本章小结 | 第40-42页 |
第三章 镍基塔状纳米支架吸气剂的制备 | 第42-60页 |
3.1 镍基塔状纳米支架定向电结晶的机理 | 第42-43页 |
3.2 实验方法 | 第43-45页 |
3.2.1 实验原料与装置 | 第43-44页 |
3.2.2 工艺流程 | 第44页 |
3.2.3 表征方法 | 第44-45页 |
3.3 定向电结晶制备镍基塔状纳米支架 | 第45-53页 |
3.3.1 预处理工艺与结晶调节剂筛选 | 第45-46页 |
3.3.2 电流密度对镍基塔状纳米结构层表面形貌的影响 | 第46-50页 |
3.3.3 电结晶时间对镍基塔状纳米结构层表面形貌的影响 | 第50-51页 |
3.3.4 多级塔状纳米结构的制备 | 第51-53页 |
3.4 硅基定向电结晶镍基塔状纳米阵列 | 第53-55页 |
3.5 镍基塔状纳米阵列支架上Ti薄膜的沉积 | 第55-56页 |
3.6 镍基塔状纳米支架结构特性研究 | 第56-58页 |
3.6.1 镍基塔状纳米支架结构的XRD晶体结构特征 | 第56-57页 |
3.6.2 镍基塔状纳米支架接触角的影响 | 第57-58页 |
3.7 本章小结 | 第58-60页 |
第四章 多孔氧化铝支架吸气剂的制备工艺 | 第60-76页 |
4.1 多孔阳极氧化铝制备机理 | 第60-61页 |
4.2 实验方法 | 第61-64页 |
4.2.1 实验原料与装置 | 第62-63页 |
4.2.2 工艺流程 | 第63-64页 |
4.3 草酸溶液中制备多孔氧化铝薄膜 | 第64-68页 |
4.3.1 阳极氧化工艺过程多孔氧化铝形貌的变化 | 第64-65页 |
4.3.2 阳极氧化工艺参数对多孔氧化铝形貌的影响 | 第65-68页 |
4.4 磷酸溶液中制备大孔间距氧化铝薄膜 | 第68-71页 |
4.5 硅基多孔氧化铝薄膜制备 | 第71-73页 |
4.6 多孔氧化铝支架上Ti薄膜的沉积 | 第73-74页 |
4.7 本章小节 | 第74-76页 |
第五章 3D纳米支架基传热及吸气特性测试 | 第76-92页 |
5.1 3D纳米支架的热学尺度效应分析 | 第76-84页 |
5.1.1 3D纳米支架的传热尺度效应 | 第76-82页 |
5.1.2 3D纳米支架感应加热测试 | 第82-84页 |
5.2 BET比表面积测试 | 第84-87页 |
5.3 热重分析(TGA) | 第87-89页 |
5.4 本章小结 | 第89-92页 |
第六章 总结与展望 | 第92-94页 |
6.1 总结 | 第92-93页 |
6.2 下一步工作 | 第93-94页 |
参考文献 | 第94-100页 |
硕士期间科研成果 | 第100-102页 |
致谢 | 第102页 |