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面向MEMS真空封装的3D纳米支架基吸气剂的制备和性能研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第14-26页
    1.1 MEMS技术概述第14-15页
    1.2 MEMS真空封装第15-17页
        1.2.1 真空封装的必要性第15-16页
        1.2.2 真空封装存在的问题第16页
        1.2.3 MEMS真空封装的研究现状第16-17页
    1.3 吸气剂技术第17-24页
        1.3.1 吸气剂及吸气机理第18-19页
        1.3.2 MEMS吸气剂国内外研究现状第19-23页
        1.3.3 MEMS吸气剂的发展趋势及存在问题第23-24页
    1.4 课题意义和论文内容第24-26页
        1.4.1 课题意义第24-25页
        1.4.2 研究内容第25-26页
第二章 非蒸散型吸气剂测试系统设计第26-42页
    2.1 吸气剂真空测试系统基本理论第26-32页
        2.1.1 吸气剂测试系统原理第26-29页
        2.1.2 真空系统设计的主要参数第29-32页
    2.2 测试系统设计参数分析与计算第32-36页
        2.2.1 设计依据第32-33页
        2.2.2 真空泵选型第33-34页
        2.2.3 微区电磁感应加热分析第34-36页
    2.3 测试系统的结构设计与构建第36-39页
        2.3.1 系统总体结构第36-37页
        2.3.2 部分真空部件设计与选型第37-39页
    2.4 系统搭建第39-40页
    2.5 本章小结第40-42页
第三章 镍基塔状纳米支架吸气剂的制备第42-60页
    3.1 镍基塔状纳米支架定向电结晶的机理第42-43页
    3.2 实验方法第43-45页
        3.2.1 实验原料与装置第43-44页
        3.2.2 工艺流程第44页
        3.2.3 表征方法第44-45页
    3.3 定向电结晶制备镍基塔状纳米支架第45-53页
        3.3.1 预处理工艺与结晶调节剂筛选第45-46页
        3.3.2 电流密度对镍基塔状纳米结构层表面形貌的影响第46-50页
        3.3.3 电结晶时间对镍基塔状纳米结构层表面形貌的影响第50-51页
        3.3.4 多级塔状纳米结构的制备第51-53页
    3.4 硅基定向电结晶镍基塔状纳米阵列第53-55页
    3.5 镍基塔状纳米阵列支架上Ti薄膜的沉积第55-56页
    3.6 镍基塔状纳米支架结构特性研究第56-58页
        3.6.1 镍基塔状纳米支架结构的XRD晶体结构特征第56-57页
        3.6.2 镍基塔状纳米支架接触角的影响第57-58页
    3.7 本章小结第58-60页
第四章 多孔氧化铝支架吸气剂的制备工艺第60-76页
    4.1 多孔阳极氧化铝制备机理第60-61页
    4.2 实验方法第61-64页
        4.2.1 实验原料与装置第62-63页
        4.2.2 工艺流程第63-64页
    4.3 草酸溶液中制备多孔氧化铝薄膜第64-68页
        4.3.1 阳极氧化工艺过程多孔氧化铝形貌的变化第64-65页
        4.3.2 阳极氧化工艺参数对多孔氧化铝形貌的影响第65-68页
    4.4 磷酸溶液中制备大孔间距氧化铝薄膜第68-71页
    4.5 硅基多孔氧化铝薄膜制备第71-73页
    4.6 多孔氧化铝支架上Ti薄膜的沉积第73-74页
    4.7 本章小节第74-76页
第五章 3D纳米支架基传热及吸气特性测试第76-92页
    5.1 3D纳米支架的热学尺度效应分析第76-84页
        5.1.1 3D纳米支架的传热尺度效应第76-82页
        5.1.2 3D纳米支架感应加热测试第82-84页
    5.2 BET比表面积测试第84-87页
    5.3 热重分析(TGA)第87-89页
    5.4 本章小结第89-92页
第六章 总结与展望第92-94页
    6.1 总结第92-93页
    6.2 下一步工作第93-94页
参考文献第94-100页
硕士期间科研成果第100-102页
致谢第102页

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