摘要 | 第3-4页 |
abstract | 第4-5页 |
第1章 文献综述 | 第8-22页 |
1.1 引言 | 第8页 |
1.2 CO_2和甲醇直接合成碳酸二甲酯除水剂研究进展 | 第8-15页 |
1.2.1 物理除水体系 | 第9-11页 |
1.2.2 化学除水体系 | 第11-15页 |
1.3 酰胺类脱水生成腈类研究进展 | 第15-19页 |
1.3.1 酰胺类脱水生成腈类除水剂研究进展 | 第15-16页 |
1.3.2 酰胺类脱水生成腈类催化剂研究进展 | 第16-18页 |
1.3.3 负载型K_2O催化剂的应用 | 第18-19页 |
1.4 纯硅介孔分子筛稳定性研究进展 | 第19-21页 |
1.5 课题研究的目的及意义 | 第21-22页 |
第2章 实验部分 | 第22-28页 |
2.1 实验试剂 | 第22-23页 |
2.2 实验装置及操作步骤 | 第23页 |
2.3 产物分析及实验结果计算 | 第23-24页 |
2.3.1 气相色谱分析 | 第23-24页 |
2.3.2 气相色谱结果分析方法 | 第24页 |
2.4 催化剂的制备 | 第24-25页 |
2.4.1 负载型K_2O催化剂的制备 | 第24页 |
2.4.2 SiO_2(B)表面羟基改性 | 第24-25页 |
2.4.3 MCM-41 制备 | 第25页 |
2.5 催化剂的表征 | 第25-28页 |
2.5.1 X-射线衍射光谱(XRD) | 第25页 |
2.5.2 傅里叶变换红外光谱(FT-IR) | 第25-26页 |
2.5.3 比表面积及孔结构测试(BET) | 第26页 |
2.5.4 程序升温脱附(He-TPD/CO_2-TPD) | 第26页 |
2.5.5 热重分析(TGA) | 第26页 |
2.5.6 场发射透射电子显微镜(TEM/HRTEM) | 第26-28页 |
第3章 K_2O/SiO_2 催化2-吡啶甲酰胺脱水生成2-氰基吡啶 | 第28-44页 |
3.1 引言 | 第28页 |
3.2 K_2O/SiO_2 催化剂表征分析 | 第28-35页 |
3.2.1 催化剂比表面及孔结构表征 | 第28-30页 |
3.2.2 催化剂碱性位表征 | 第30-33页 |
3.2.3 催化剂XRD表征 | 第33-34页 |
3.2.4 催化剂FT-IR表征 | 第34-35页 |
3.3 K_2O/SiO_2 催化剂活性评价 | 第35-39页 |
3.4 SiO_2(B)表面改性 | 第39-42页 |
3.5 小结 | 第42-44页 |
第4章 K_2O/MCM-41 催化2-吡啶甲酰胺脱水生成2-氰基吡啶 | 第44-58页 |
4.1 引言 | 第44页 |
4.2 K_2O/MCM-41 催化剂活性评价 | 第44-46页 |
4.3 K_2O/MCM-41 催化剂表征分析 | 第46-57页 |
4.4 小结 | 第57-58页 |
第5章 结论与展望 | 第58-60页 |
5.1 结论 | 第58-59页 |
5.2 展望 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-68页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第68-70页 |
发表论文 | 第68页 |
参加科研项目 | 第68-70页 |
致谢 | 第70页 |