| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-42页 |
| 1.1 本文研究的背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 纳米压痕的基础理论 | 第11-16页 |
| 1.3 国内外纳米压痕的研究现状 | 第16-37页 |
| 1.4 分子动力学基本理论与关键技术 | 第37-41页 |
| 1.5 本文研究的目的、意义和内容安排 | 第41-42页 |
| 2 单晶铜纳米压痕过程中位错的时空分布规律 | 第42-59页 |
| 2.1 单晶铜纳米压痕的分子动力学模型 | 第43页 |
| 2.2 接触面积投影和压头周围位错密度的计算 | 第43-46页 |
| 2.3 载荷–下压深度、接触面积投影–下压深度和硬度–下压深度关系曲线的研究 | 第46-49页 |
| 2.4 试样内部位错线长度变化和时空分布 | 第49-58页 |
| 2.5 本章小结 | 第58-59页 |
| 3 单晶铜纳米压痕过程中棱柱位错环的形成机制 | 第59-72页 |
| 3.1 纳米孪生单晶铜纳米压痕的分子动力学模型 | 第59-61页 |
| 3.2 可视和跟踪位错演化的双Thompson四面体记号 | 第61-63页 |
| 3.3 纳米压痕过程中的载荷–下压深度关系曲线 | 第63-64页 |
| 3.4 塑性变形初始阶段的位错形核 | 第64-66页 |
| 3.5 无交滑移参与的棱柱位错环形成机制 | 第66-70页 |
| 3.6 本章小结 | 第70-72页 |
| 4 纳米孪晶铜塑性变形过程中棱柱位错环与共格孪晶界面的反应机制 | 第72-80页 |
| 4.1 棱柱位错环与共格孪晶界面的反应 | 第73-75页 |
| 4.2 共格孪晶界面上孪生位错的增殖 | 第75-79页 |
| 4.3 本章小结 | 第79-80页 |
| 5 纳米孪晶铜塑性变形过程中层错四面体的形成机制 | 第80-88页 |
| 5.1 纳米孪生单晶铜纳米压痕的分子动力学模型 | 第82-83页 |
| 5.2 无空穴或Frank位错环参与的层错四面体形成新机制 | 第83-86页 |
| 5.3 层错四面体形成机制的讨论 | 第86-87页 |
| 5.4 本章小结 | 第87-88页 |
| 6 全文总结与工作展望 | 第88-91页 |
| 6.1 全文总结 | 第88-89页 |
| 6.2 本文创新点 | 第89页 |
| 6.3 工作展望 | 第89-91页 |
| 致谢 | 第91-93页 |
| 参考文献 | 第93-108页 |
| 附录A 本文涉及到的重要代码 | 第108-128页 |
| 附录B 攻读学位期间的主要成果和奖励 | 第128页 |
