| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第9-10页 |
| 1.2 钽铌酸钾晶体相关领域的国内外研究现状 | 第10-14页 |
| 1.2.1 钽铌酸钾晶体结构与光学性能 | 第10-11页 |
| 1.2.2 国内外研究进展及成果 | 第11-14页 |
| 1.3 数字全息领域的研究现状 | 第14-16页 |
| 1.4 本文的主要研究内容 | 第16-18页 |
| 第2章 数字全息干涉计量系统的原理与算法 | 第18-26页 |
| 2.1 引言 | 第18页 |
| 2.2 数字全息干涉的原理 | 第18-20页 |
| 2.3 图像传感器选择与记录限制 | 第20-21页 |
| 2.4 数字全息图像的记录方式 | 第21-23页 |
| 2.5 数字全息图像的再现方式 | 第23-25页 |
| 2.6 本章小结 | 第25-26页 |
| 第3章 钽铌酸钾晶体的数字全息干涉光路搭建与图像处理 | 第26-38页 |
| 3.1 引言 | 第26页 |
| 3.2 钽铌酸钾晶体的折射率分布计算 | 第26-29页 |
| 3.2.1 钽铌酸钾晶体二次电光效应的机理 | 第26-27页 |
| 3.2.2 钽铌酸钾晶体二次电光效应的折射率椭球表达 | 第27-29页 |
| 3.3 钽铌酸钾晶体的数字全息干涉光路搭建 | 第29-31页 |
| 3.4 钽铌酸钾晶体的数字全息图像处理 | 第31-34页 |
| 3.4.1 全息图像处理算法流程 | 第31-32页 |
| 3.4.2 钽铌酸钾晶体的全息图像处理实验结果 | 第32-34页 |
| 3.5 数字图像处理过程中图像质量的影响因素 | 第34-37页 |
| 3.6 本章小结 | 第37-38页 |
| 第4章 钽铌酸钾晶体电致折射率变化的表征及掺杂浓度梯度与温场的调控作用 | 第38-55页 |
| 4.1 引言 | 第38页 |
| 4.2 钽铌酸钾晶体的介温谱测量 | 第38-40页 |
| 4.2.1 晶体介温谱测量方法 | 第38-39页 |
| 4.2.2 实验所用钽铌酸钾晶体介温谱的测量结果 | 第39-40页 |
| 4.3 钽铌酸钾电致折射率变化分布的表征与偏振态的影响 | 第40-44页 |
| 4.4 引入掺杂浓度梯度钽铌酸钾晶体的电致折射率变化性能表征 | 第44-47页 |
| 4.5 温场对于钽铌酸钾晶体的电致折射率变化性能调制作用 | 第47-54页 |
| 4.5.1 内建温场对于双折射晶体本征折射率的影响 | 第48-51页 |
| 4.5.2 温场对于电控光偏转性能的影响 | 第51-54页 |
| 4.6 本章小结 | 第54-55页 |
| 结论 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第59-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
