| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-14页 |
| 1.1 课题立项背景 | 第10-11页 |
| 1.2 NSMM系统的基本描述 | 第11页 |
| 1.3 高频介电特性测量方法 | 第11-13页 |
| 1.3.1 传输法 | 第12页 |
| 1.3.2 谐振腔法 | 第12-13页 |
| 1.4 本课题主要工作和创新点 | 第13-14页 |
| 第二章 NSMM系统的定量分析理论 | 第14-29页 |
| 2.1 材料复介电常数的介绍 | 第14-15页 |
| 2.2 同轴谐振腔 | 第15-22页 |
| 2.2.1 同轴线中的场 | 第15-18页 |
| 2.2.2 同轴线尺寸选择规则 | 第18-19页 |
| 2.2.3 同轴谐振腔结构及其主要特性参数 | 第19-22页 |
| 2.3 同轴谐振腔的仿真分析 | 第22-25页 |
| 2.4 谐振腔材料微扰理论 | 第25-26页 |
| 2.5 NSMM系统中定量测量理论 | 第26-28页 |
| 2.5.1 介电常数的定量测量 | 第26-27页 |
| 2.5.2 电导率的定量测量 | 第27-28页 |
| 2.6 本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 石墨烯薄膜的沉积法制备与表征 | 第29-34页 |
| 3.1 石墨烯薄膜制备 | 第29-30页 |
| 3.1.1 硅片预处理 | 第29-30页 |
| 3.1.2 沉积法制备石墨烯薄膜 | 第30页 |
| 3.2 石墨烯的表征方法 | 第30-32页 |
| 3.2.1 扫描电镜法 | 第30-31页 |
| 3.2.2 傅立叶红外光谱法 | 第31页 |
| 3.2.3 原子力显微镜法 | 第31页 |
| 3.2.4 光学显微镜法 | 第31-32页 |
| 3.3 硅基石墨烯样品 | 第32-33页 |
| 3.4 本章小结 | 第33-34页 |
| 第四章 近场扫描微波显微镜 | 第34-51页 |
| 4.1 近场扫描微波显微镜的硬件部分 | 第34-37页 |
| 4.1.1 谐振腔 | 第34-35页 |
| 4.1.2 探针 | 第35-37页 |
| 4.1.3 矢量网络分析仪 | 第37页 |
| 4.1.4 位移部分 | 第37页 |
| 4.1.5 其它部件 | 第37页 |
| 4.2 近场扫描微波显微镜系统的软件部分 | 第37-50页 |
| 4.2.1 Lab View编程介绍 | 第37-40页 |
| 4.2.2 NSMM系统软件结构框架 | 第40-50页 |
| 4.3 本章小结 | 第50-51页 |
| 第五章 石墨烯薄膜微波近场扫描测试实验 | 第51-64页 |
| 5.1 NSMM系统测试 | 第51-54页 |
| 5.1.1 单点测试 | 第51-52页 |
| 5.1.2 面测试 | 第52-53页 |
| 5.1.3 石墨烯薄膜的近场测量 | 第53-54页 |
| 5.2 四探针法测量 | 第54-56页 |
| 5.3 探针样品仿真模型 | 第56-57页 |
| 5.3.1 COMSOL Multiphysics简介 | 第56页 |
| 5.3.2 探针样品模型 | 第56-57页 |
| 5.4 介质特性的定量分析 | 第57-60页 |
| 5.5 石墨烯的NSMM成像 | 第60-63页 |
| 5.6 本章小结 | 第63-64页 |
| 第六章 结论与展望 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 附图 1 | 第70-71页 |
| 附图 2 | 第71-73页 |
| 攻硕时期获得的研究成果 | 第73-74页 |