学位论文的主要创新点 | 第3-4页 |
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第11-25页 |
1.1 石墨烯的概述 | 第11-12页 |
1.2 石墨烯的结构和性能 | 第12-13页 |
1.2.1 石墨烯的力学性能 | 第12页 |
1.2.2 石墨烯的热学性能 | 第12页 |
1.2.3 石墨烯的光学性能 | 第12页 |
1.2.4 石墨烯的电学性能 | 第12-13页 |
1.3 石墨烯的制备 | 第13-16页 |
1.3.1 微机械剥离法 | 第13-14页 |
1.3.2 电弧放电法 | 第14页 |
1.3.3 外延生长法 | 第14页 |
1.3.4 化学气相沉积法 | 第14-15页 |
1.3.5 有机合成法 | 第15页 |
1.3.6 还原氧化石墨法 | 第15-16页 |
1.4 石墨烯的应用 | 第16-17页 |
1.4.1 电化学传感器 | 第16页 |
1.4.2 储能材料 | 第16-17页 |
1.5 关于石墨烯优异电化学性能机理的研究 | 第17-19页 |
1.5.1 石墨烯层数对其电化学性能的影响 | 第17页 |
1.5.2 不同方法制备的石墨烯对电化学性能的影响 | 第17-18页 |
1.5.3 氧化官能团对其电化学性能的影响 | 第18页 |
1.5.4 活性位点对其电化学性能的影响 | 第18页 |
1.5.5 氧化碎片的发现以及对其电化学性能的影响 | 第18-19页 |
1.6 氟化石墨烯的结构和性质 | 第19-20页 |
1.7 氟化石墨烯的制备 | 第20-21页 |
1.7.1 表面改性法 | 第20页 |
1.7.2 剥离法 | 第20-21页 |
1.8 氟化石墨烯电化学性能的研究 | 第21-22页 |
1.9 课题提出 | 第22-25页 |
1.9.1 课题研究的目的和意义 | 第22页 |
1.9.2 主要研究内容 | 第22-25页 |
第二章 纯化氧化石墨烯电化学行为的研究 | 第25-43页 |
2.1 实验试剂和仪器 | 第26-28页 |
2.1.1 实验试剂 | 第26-27页 |
2.1.2 实验仪器 | 第27-28页 |
2.1.3 二价镉标准储备液的配制 | 第28页 |
2.1.4 邻苯二酚和对苯二酚标准储备液的配制 | 第28页 |
2.2 实验方法 | 第28-29页 |
2.2.1 氧化石墨烯的制备 | 第28页 |
2.2.2 钠型和氢型纯化氧化石墨烯的制备 | 第28-29页 |
2.3 钠型和氢型纯化氧化石墨烯的表征 | 第29-30页 |
2.3.1 傅里叶-红外光谱分析(FT-IR) | 第29页 |
2.3.2 拉曼光谱(Raman) | 第29页 |
2.3.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第29页 |
2.3.4 X射线衍射能谱分析(XRD) | 第29页 |
2.3.5 原子力显微镜分析(AFM) | 第29页 |
2.3.6 扫描电镜分析(SEM) | 第29-30页 |
2.3.7 透射电镜分析(TEM) | 第30页 |
2.4 钠型和氢型纯化氧化石墨烯修饰玻碳电极的制备和表征 | 第30-31页 |
2.4.1 玻碳电极预处理 | 第30页 |
2.4.2 钠型和氢型纯化氧化石墨烯修饰电极的制备 | 第30页 |
2.4.3 钠型和氢型纯化氧化石墨烯修饰玻碳电极的表征 | 第30-31页 |
2.5 结果与讨论 | 第31-40页 |
2.5.1 钠型和氢型纯化氧化石墨烯的表征 | 第31-36页 |
2.5.1.1 红外谱图分析 | 第31-32页 |
2.5.1.2 XPS谱图分析 | 第32-33页 |
2.5.1.3 拉曼光谱 | 第33-34页 |
2.5.1.4 XRD谱图分析 | 第34页 |
2.5.1.5 扫描电子显微镜 | 第34-35页 |
2.5.1.6 透射电子显微镜 | 第35-36页 |
2.5.1.7 原子力显微镜 | 第36页 |
2.5.2 钠型和氢型纯化氧化石墨烯修饰玻碳电极的表征 | 第36-40页 |
2.5.2.1 循环伏安和交流阻抗 | 第36-37页 |
2.5.2.2 CC在修饰电极的溶出伏安特性 | 第37-39页 |
2.5.2.3 Cd在修饰电极的溶出伏安特性 | 第39-40页 |
2.6 本章小结 | 第40-43页 |
第三章 氟化石墨的制备及其对水中邻苯二酚和对苯二酚的同时检测 | 第43-57页 |
3.1 实验试剂和仪器 | 第43-45页 |
3.1.1 实验试剂 | 第43-44页 |
3.1.2 实验仪器 | 第44-45页 |
3.1.3 邻苯二酚和对苯二酚标准储备液的配制 | 第45页 |
3.2 实验方法 | 第45-46页 |
3.2.1 预氧化石墨烯的制备 | 第45页 |
3.2.2 氟化石墨的制备 | 第45-46页 |
3.3 氟化石墨的表征 | 第46页 |
3.3.1 傅里叶-红外光谱分析(FT-IR) | 第46页 |
3.3.2 X射线光电子能谱(XPS) | 第46页 |
3.4 氟化石墨修饰玻碳电极的制备和表征 | 第46-47页 |
3.4.1 玻碳电极预处理 | 第46页 |
3.4.2 预氧化石墨和氟化石墨修饰玻碳电极的制备 | 第46页 |
3.4.3 预氧化石墨和氟化石墨修饰玻碳电极的表征 | 第46-47页 |
3.5 结果与讨论 | 第47-56页 |
3.5.1 氟化石墨的表征 | 第47-48页 |
3.5.1.1 红外谱图分析 | 第47-48页 |
3.5.1.2 XPS谱图分析 | 第48页 |
3.5.2 氟化石墨修饰玻碳电极的表征 | 第48-56页 |
3.5.2.0 循环伏安和交流阻抗 | 第48-50页 |
3.5.2.1 CC和HQ在修饰电极上的循环伏安特性 | 第50页 |
3.5.2.2 电解质溶液以及pH值的影响 | 第50-52页 |
3.5.2.3 扫描速度的影响 | 第52-53页 |
3.5.2.4 滴涂量的影响 | 第53-54页 |
3.5.2.5 线性范围和检出限 | 第54-55页 |
3.5.2.6 抗干扰性 | 第55页 |
3.5.2.7 重现性和稳定性 | 第55-56页 |
3.5.2.8 实际样品分析 | 第56页 |
3.6 本章小结 | 第56-57页 |
第四章 氟化石墨烯的制备及对水中CC和HQ的同时检测 | 第57-73页 |
4.1 实验试剂和仪器 | 第58-59页 |
4.1.1 实验试剂 | 第58页 |
4.1.2 实验仪器 | 第58-59页 |
4.1.3 邻苯二酚和对苯二酚标准储备液的配制 | 第59页 |
4.2 氟化石墨烯的制备 | 第59页 |
4.3 FGO的表征 | 第59-60页 |
4.3.1 傅里叶-红外光谱分析(FT-IR) | 第60页 |
4.3.2 X射线光电子能谱(XPS) | 第60页 |
4.3.3 扫描电镜分析(SEM) | 第60页 |
4.3.4 透射电镜分析(TEM) | 第60页 |
4.4 氟化石墨烯修饰玻碳电极的制备及表征 | 第60-61页 |
4.4.1 玻碳电极预处理 | 第60页 |
4.4.2 氟化石墨烯修饰电极的制备 | 第60-61页 |
4.4.3 氟化石墨烯修饰电极的表征 | 第61页 |
4.5 结果与讨论 | 第61-72页 |
4.5.1 氟化石墨烯的表征 | 第61-64页 |
4.5.1.1 红外谱图分析 | 第61-62页 |
4.5.1.2 XPS谱图分析 | 第62-63页 |
4.5.1.3 SEM和TEM分析 | 第63-64页 |
4.5.2 氟化石墨烯修饰玻碳电极的表征 | 第64-72页 |
4.5.2.1 循环伏安和交流阻抗 | 第64-66页 |
4.5.2.2 CC和HQ在修饰电极的循环伏安特性 | 第66-67页 |
4.5.2.3 底液的选择 | 第67页 |
4.5.2.4 pH的选择 | 第67-68页 |
4.5.2.5 扫速的影响 | 第68-69页 |
4.5.2.6 滴涂量的选择 | 第69-70页 |
4.5.2.7 线性范围和检出限 | 第70-71页 |
4.5.2.8 干扰实验 | 第71页 |
4.5.2.9 重现性和稳定性 | 第71-72页 |
4.5.2.10 实际样品分析 | 第72页 |
4.6 本章小结 | 第72-73页 |
第五章 结论 | 第73-75页 |
参考文献 | 第75-89页 |
硕士期间发表论文情况 | 第89-91页 |
致谢 | 第91页 |