| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-12页 |
| 1.1 研究背景与意义 | 第8-9页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第9-10页 |
| 1.3 本文的组织结构 | 第10-12页 |
| 第2章 光刻成像相关理论 | 第12-27页 |
| 2.1 光刻成像系统 | 第12-14页 |
| 2.1.1 照明光源 | 第13页 |
| 2.1.2 透镜组 | 第13页 |
| 2.1.3 掩模 | 第13-14页 |
| 2.1.4 光刻胶 | 第14页 |
| 2.2 分辨率增强技术 | 第14-18页 |
| 2.2.1 离轴照明技术 | 第14-16页 |
| 2.2.2 移相掩模技术 | 第16-17页 |
| 2.2.3 光学邻近校正技术 | 第17页 |
| 2.2.4 反向光刻技术 | 第17-18页 |
| 2.3 基于DMD的数字光刻技术 | 第18-20页 |
| 2.4 数字微镜器件 | 第20-22页 |
| 2.4.1 DMD基本结构 | 第20-21页 |
| 2.4.2 DMD工作原理 | 第21页 |
| 2.4.3 DMD的特点 | 第21-22页 |
| 2.5 部分相干成像算法 | 第22-26页 |
| 2.5.1 Hopkins成像算法 | 第22-25页 |
| 2.5.2 Abbe成像算法 | 第25-26页 |
| 2.6 本章总结 | 第26-27页 |
| 第3章 粒子群算法的改进 | 第27-41页 |
| 3.1 粒子群算法 | 第27-29页 |
| 3.1.1 算法起源 | 第27页 |
| 3.1.2 算法原理 | 第27-29页 |
| 3.2 标准的粒子群优化算法 | 第29-30页 |
| 3.3 参数分析 | 第30-32页 |
| 3.4 粒子群算法的改进 | 第32-34页 |
| 3.4.1 传统粒子群算法存在的问题 | 第32-33页 |
| 3.4.2 改进的粒子群优化算法 | 第33-34页 |
| 3.5 实验对比 | 第34-40页 |
| 3.6 本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 基于改进粒子群算法的数字光刻成像优化 | 第41-47页 |
| 4.1 基于像素的数字光刻模型 | 第41-43页 |
| 4.2 利用改进的粒子群算法的数字光刻成像质量优化 | 第43-45页 |
| 4.3 本章小结 | 第45-47页 |
| 第5章 实验结果与分析 | 第47-53页 |
| 5.1 参数设置 | 第47页 |
| 5.2 实验结果 | 第47-52页 |
| 5.2.1 条形掩模优化 | 第47-50页 |
| 5.2.2 对称正方形掩模优化 | 第50-52页 |
| 5.3 本章小结 | 第52-53页 |
| 第6章 总结与展望 | 第53-55页 |
| 6.1 总结 | 第53页 |
| 6.2 展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第60-61页 |
| 攻读硕士学位期间参与科研情况 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |