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基于改进粒子群算法的数字光刻成像研究

摘要第3-4页
Abstract第4-5页
第1章 绪论第8-12页
    1.1 研究背景与意义第8-9页
    1.2 国内外研究现状第9-10页
    1.3 本文的组织结构第10-12页
第2章 光刻成像相关理论第12-27页
    2.1 光刻成像系统第12-14页
        2.1.1 照明光源第13页
        2.1.2 透镜组第13页
        2.1.3 掩模第13-14页
        2.1.4 光刻胶第14页
    2.2 分辨率增强技术第14-18页
        2.2.1 离轴照明技术第14-16页
        2.2.2 移相掩模技术第16-17页
        2.2.3 光学邻近校正技术第17页
        2.2.4 反向光刻技术第17-18页
    2.3 基于DMD的数字光刻技术第18-20页
    2.4 数字微镜器件第20-22页
        2.4.1 DMD基本结构第20-21页
        2.4.2 DMD工作原理第21页
        2.4.3 DMD的特点第21-22页
    2.5 部分相干成像算法第22-26页
        2.5.1 Hopkins成像算法第22-25页
        2.5.2 Abbe成像算法第25-26页
    2.6 本章总结第26-27页
第3章 粒子群算法的改进第27-41页
    3.1 粒子群算法第27-29页
        3.1.1 算法起源第27页
        3.1.2 算法原理第27-29页
    3.2 标准的粒子群优化算法第29-30页
    3.3 参数分析第30-32页
    3.4 粒子群算法的改进第32-34页
        3.4.1 传统粒子群算法存在的问题第32-33页
        3.4.2 改进的粒子群优化算法第33-34页
    3.5 实验对比第34-40页
    3.6 本章小结第40-41页
第4章 基于改进粒子群算法的数字光刻成像优化第41-47页
    4.1 基于像素的数字光刻模型第41-43页
    4.2 利用改进的粒子群算法的数字光刻成像质量优化第43-45页
    4.3 本章小结第45-47页
第5章 实验结果与分析第47-53页
    5.1 参数设置第47页
    5.2 实验结果第47-52页
        5.2.1 条形掩模优化第47-50页
        5.2.2 对称正方形掩模优化第50-52页
    5.3 本章小结第52-53页
第6章 总结与展望第53-55页
    6.1 总结第53页
    6.2 展望第53-55页
参考文献第55-60页
攻读硕士学位期间发表的论文第60-61页
攻读硕士学位期间参与科研情况第61-62页
致谢第62-63页

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