摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
1 绪论 | 第12-39页 |
1.1 引言 | 第12-13页 |
1.2 聚合物太阳能电池简介 | 第13-16页 |
1.2.1 聚合物太阳能电池的基本原理 | 第13-14页 |
1.2.2 聚合物太阳能电池的基本结构 | 第14-15页 |
1.2.3 聚合物太阳能电池的性能表征 | 第15-16页 |
1.3 聚合物太阳能电池的发展历程 | 第16-18页 |
1.4 改善聚合物太阳能电池器件性能的方法 | 第18-29页 |
1.4.1 改善光的吸收 | 第19-20页 |
1.4.2 活性层形貌的控制 | 第20-25页 |
1.4.3 界面修饰 | 第25-29页 |
1.5 纳米压印在聚合物太阳能电池中的应用简介 | 第29-37页 |
1.5.1 纳米压印简介 | 第29-30页 |
1.5.2 纳米压印双层器件 | 第30-33页 |
1.5.3 共混型压印器件 | 第33-34页 |
1.5.4 图案化电极 | 第34页 |
1.5.5 纳米压印对D/A界面和分子取向的影响 | 第34-37页 |
1.6 本论文的设计思想与主要内容 | 第37-39页 |
2 共混型太阳能电池的阴极界面和器件结构研究 | 第39-65页 |
2.1 共轭聚电解质作为阴极界面层的聚合物太阳能电池 | 第39-51页 |
2.1.1 引言 | 第39-40页 |
2.1.2 实验部分 | 第40-42页 |
2.1.3 结果与讨论 | 第42-51页 |
2.2 超薄铝膜修饰的AZO为底电极的反式结构聚合物太阳能电池 | 第51-63页 |
2.2.1 引言 | 第51-52页 |
2.2.2 实验部分 | 第52-53页 |
2.2.3 结果与讨论 | 第53-63页 |
2.3 本章小结 | 第63-65页 |
3 双层平板太阳能电池的性能研究 | 第65-78页 |
3.1 引言 | 第65页 |
3.2 实验部分 | 第65-67页 |
3.2.1 实验所用材料与试剂 | 第65-66页 |
3.2.2 器件制备流程 | 第66页 |
3.2.3 器件表征 | 第66-67页 |
3.3 双层器件结果与讨论 | 第67-77页 |
3.3.1 PCBM厚度对双层器件光伏性能的影响 | 第67-68页 |
3.3.2 退火温度对双层器件光伏性能和表面形貌的影响 | 第68-71页 |
3.3.3 P3HT厚度对双层器件光伏性能的影响 | 第71-73页 |
3.3.4 甲醇添加剂对双层器件性能的影响 | 第73-77页 |
3.4 本章小结 | 第77-78页 |
4 纳米压印模版的制备工艺探索 | 第78-96页 |
4.1 引言 | 第78-79页 |
4.2 实验部分 | 第79-81页 |
4.2.1 实验所用材料及设备 | 第79页 |
4.2.2 模版制备流程 | 第79-81页 |
4.3 直接法制备模版的工艺探索 | 第81-86页 |
4.3.1 电子束曝光剂量对图形横向尺寸的影响 | 第81-83页 |
4.3.2 ICP 刻蚀条件对图形纵向尺寸的影响 | 第83-85页 |
4.3.3 图案化的HSQ直接作为模版 | 第85-86页 |
4.4 金属化转移法制备模版的工艺探索 | 第86-95页 |
4.4.1 光阑孔径对图形尺寸的影响 | 第86-88页 |
4.4.2 电子束曝光剂量对图形尺寸的影响 | 第88-91页 |
4.4.3 剥离工艺溶剂的选择 | 第91-93页 |
4.4.4 反应离子刻蚀对图形纵向尺寸的影响 | 第93-94页 |
4.4.5 最终制备的硅基模版阵列结构 | 第94-95页 |
4.5 本章小结 | 第95-96页 |
5 纳米压印给体和受体阵列的工艺探索 | 第96-111页 |
5.1 引言 | 第96-97页 |
5.2 纳米压印工艺所用材料及设备 | 第97页 |
5.3 纳米压印工艺过程及结果讨论 | 第97-109页 |
5.3.1 模版表面的防粘处理 | 第97-100页 |
5.3.2 ormostamp模版复制 | 第100-103页 |
5.3.3 给体P3HT的压印工艺及优化 | 第103-108页 |
5.3.4 受体材料的压印工艺及优化 | 第108-109页 |
5.4 本章小结 | 第109-111页 |
6 总结与展望 | 第111-114页 |
致谢 | 第114-115页 |
参考文献 | 第115-130页 |
攻读博士学位期间发表论文 | 第130页 |