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聚合物光波导和阵列波导光栅的基础研究

提 要第4-8页
第一章 前言第8-33页
    1.1 有机聚合物光电子器件的发展第8-11页
    1.2 有机聚合物光电子材料第11-15页
        1.2.1 有机聚合物光电子材料的特点第11-12页
        1.2.2 已报导的有机聚合物波导材料第12-15页
    1.3 有机聚合物材料在光电子技术中的应用第15-18页
    1.4 AWG的发展现状第18-23页
        1.4.1 波分复用技术第18-19页
        1.4.2 阵列波导光栅(AWG)波分复用器简介第19-21页
        1.4.3 无机AWG的进展第21-22页
        1.4.4 聚合物AWG的进展第22-23页
    1.5 本论文的主要工作第23-25页
    参考文献第25-33页
第二章 聚合物AWG的原理与应用要求第33-52页
    2.1 引言第33页
    2.2 基本原理第33-40页
        2.2.1 光栅方程第36-37页
        2.2.2 角色散方程第37-38页
        2.2.3 自由光谱区第38-39页
        2.2.4 波长分配原理第39-40页
    2.3 基本功能第40-44页
        2.3.1 复用/解复用第40-41页
        2.3.2 波长路由器第41-42页
        2.3.3 光插分复用器第42页
        2.3.4 波长选择开关第42-43页
        2.3.5 多波长光源第43-44页
    2.4 技术性能第44-48页
        2.4.1 偏振特性第44-45页
        2.4.2 损耗特性第45-46页
        2.4.3 波长随温度变化特性第46-47页
        2.4.4 顶部平坦的带通第47页
        2.4.5 像差第47-48页
        2.4.6 与光纤的连接第48页
    2.5 小结第48页
    参考文献第48-52页
第三章 9×9聚合物AWG的优化设计及偏振特性第52-75页
    3.1 器件参数设计第52-59页
        3.1.1 芯区波导的尺寸第53-54页
        3.1.2 相邻波导间距第54-56页
        3.1.3 器件参数第56-59页
    3.2 光刻版图的设计第59-63页
        3.2.1 弯曲结构第59-60页
        3.2.2 版图第60-63页
    3.3 数值模拟第63-67页
        3.3.1 FSR和((第63-66页
        3.3.2 串扰第66-67页
    3.4 偏振特性第67-73页
        3.4.1 理论分析第67-68页
        3.4.2 结果及讨论第68-73页
    3.5 小结第73页
    参考文献第73-75页
第四章 聚合物波导的工艺制备第75-106页
    4.1 引言第75-76页
    4.2 聚合物材料的选择第76-81页
        4.2.1 聚合物的结构表征第78-80页
        4.2.2 聚合物的热性能分析第80页
        4.2.3 聚合物膜层开环反应第80-81页
    4.3 制备聚合物薄膜第81-84页
    4.4 光刻掩模第84-94页
        4.4.1 掩模的选择第84-86页
        4.4.2 铝膜的淀积第86-92页
        4.4.3 光刻第92-94页
    4.5 反应离子刻蚀第94-99页
    4.6 端面处理第99-101页
    4.7 工艺流程第101-102页
    4.8 小结第102-103页
    参考文献第103-106页
第五章 AWG的测试第106-120页
    5.1 材料特性的测试第106-111页
        5.1.1 折射率测试第106-109页
        5.1.2 材料消光指数的测量第109-110页
        5.1.3 厚度测试第110-111页
    5.2 形貌测试第111-112页
    5.3 器件特性测试第112-119页
        5.3.1 光纤与光波导的耦合原理第113-114页
        5.3.2 光纤拉锥法耦合测试第114-119页
    5.4 小结第119页
    参考文献第119-120页
结束语第120-121页
致谢第121-122页
博士论文期间发表的论文第122-126页
摘要第126-129页
ABSTRACT第129页

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