| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 研究背景 | 第9页 |
| 1.2 氧化锌的结构与光学性质 | 第9-11页 |
| 1.3 ZnO薄膜的制备方法 | 第11-15页 |
| 1.3.1 磁控溅射技术(Magnetron-Sputtering) | 第11-13页 |
| 1.3.2 脉冲激光沉积(PLD) | 第13-14页 |
| 1.3.3 分子束外延(MBE) | 第14-15页 |
| 1.3.4 溶胶-凝胶法(Sol-Gel) | 第15页 |
| 1.3.5 化学气相沉积法(CVD) | 第15页 |
| 1.4 ZnO薄膜的掺杂研究 | 第15-16页 |
| 1.5 金属纳米颗粒的合成与应用 | 第16-17页 |
| 1.6 本论文的选题意义和主要工作 | 第17-19页 |
| 第二章 基础理论介绍 | 第19-24页 |
| 2.1 离子注入原理 | 第19-20页 |
| 2.2 Mie理论与M-G理论 | 第20-22页 |
| 2.2.1 Mie理论 | 第20-21页 |
| 2.2.2 M-G理论 | 第21-22页 |
| 2.3 表面等离子体共振(SPR) | 第22-24页 |
| 第三章 样品的制备及测试方法 | 第24-30页 |
| 3.1 样品的制备 | 第24-27页 |
| 3.1.1 Ag离子注入掺杂ZnO薄膜的样品 | 第24-25页 |
| 3.1.2 ZnO-Ag NPs耦合样品 | 第25-27页 |
| 3.2 主要测试方法及原理介绍 | 第27-30页 |
| 3.2.1 荧光光谱测试仪(PL) | 第27-28页 |
| 3.2.2 紫外－可见分光光度计(UV-Vis) | 第28页 |
| 3.2.3 掠入射X射线衍射仪(GIXRD) | 第28-29页 |
| 3.2.4 扫描电子显微镜(SEM) | 第29-30页 |
| 第四章 Ag离子注入掺杂ZnO薄膜的发光性质研究 | 第30-39页 |
| 4.1 ZnO薄膜样品PL与SEM结果与分析 | 第30-32页 |
| 4.2 ZnO薄膜掺杂后的PL结果与分析 | 第32-34页 |
| 4.3 ZnO薄膜掺杂前后的GIXRD结果与分析 | 第34-35页 |
| 4.4 ZnO薄膜掺杂前后的UV-Vis光吸收谱与分析 | 第35-36页 |
| 4.5 退火对掺杂后的ZnO薄膜发光性质影响 | 第36-37页 |
| 4.6 本章小结 | 第37-39页 |
| 第五章 ZnO-Ag NPs耦合对ZnO发光性质的影响研究 | 第39-50页 |
| 5.1 PLD制备的ZnO薄膜PL与SEM结果与分析 | 第39-42页 |
| 5.2 基底中注Ag的ZnO薄膜UV-Vis光吸收谱与PL结果与分析 | 第42-46页 |
| 5.3 退火对样品光学性质的影响 | 第46-48页 |
| 5.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 第六章 总结 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-58页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
