| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第7-26页 |
| 1.1 热敏电阻发展与现状 | 第7页 |
| 1.2 热敏电阻的分类 | 第7-11页 |
| 1.2.1 PTC热敏电阻 | 第8-9页 |
| 1.2.2 NTC热敏电阻 | 第9-10页 |
| 1.2.3 CTR热敏电阻 | 第10-11页 |
| 1.3 热敏电阻的发展前景 | 第11-12页 |
| 1.4 产生热敏电阻的微观机制 | 第12-15页 |
| 1.4.1 金属导电机制 | 第12-13页 |
| 1.4.2 铁磁材料的电阻率与温度关系 | 第13-15页 |
| 1.5 Fe_3Si材料的结构和基本性质 | 第15-19页 |
| 1.5.1 Fe-Si合金相图 | 第15页 |
| 1.5.2 Fe_3Si的晶体结构 | 第15-16页 |
| 1.5.3 Fe_3Si的力学性质 | 第16-17页 |
| 1.5.4 Fe_3Si的磁学性质 | 第17页 |
| 1.5.5 Fe_3Si的高温抗氧化性能 | 第17-18页 |
| 1.5.6 Fe_3Si的相变和扩散机制 | 第18-19页 |
| 1.5.7 Fe_3Si的电学性质 | 第19页 |
| 1.6 Fe_3Si的制备方法 | 第19-24页 |
| 1.6.1 分子束外延方法（MBE） | 第20页 |
| 1.6.2 磁控溅射沉积（MSD） | 第20-21页 |
| 1.6.3 脉冲激光沉积（PLD） | 第21-22页 |
| 1.6.4 化学气相沉积(CVD) | 第22页 |
| 1.6.5 机械合金化-热压烧结法(MA—Hot Pressed Sintering) | 第22-24页 |
| 1.7 本论文的意义、研究内容和文章结构 | 第24-26页 |
| 1.7.1 论文的研究意义 | 第24页 |
| 1.7.2 论文的研究内容 | 第24-25页 |
| 1.7.3 文章结构安排 | 第25-26页 |
| 第二章 样品的制备与表征 | 第26-37页 |
| 2.1 实验原料及设备 | 第26-27页 |
| 2.1.1 实验原材料 | 第26页 |
| 2.1.2 仪器与设备 | 第26-27页 |
| 2.2 样品制备 | 第27-29页 |
| 2.3 实验仪器和材料性能表征方法 | 第29-37页 |
| 2.3.1 行星式球磨机 | 第29-30页 |
| 2.3.2 液压机 | 第30页 |
| 2.3.3 热压烧结炉 | 第30-31页 |
| 2.3.4 丝网印刷机 | 第31-32页 |
| 2.3.5 管式烧结炉 | 第32-33页 |
| 2.3.6 室温四探针测试系统 | 第33-34页 |
| 2.3.7 高温四探针测试系统 | 第34-35页 |
| 2.3.8 X射线衍射仪（XRD）分析 | 第35-37页 |
| 第三章 成型压力对Fe_3Si材料电性能的影响 | 第37-45页 |
| 3.1 实验内容 | 第37-38页 |
| 3.1.1 样品制备 | 第37-38页 |
| 3.1.2 样品测试 | 第38页 |
| 3.2 实验结果与讨论 | 第38-44页 |
| 3.2.1 不同成型压力下Fe_3Si热敏电阻的物相分析 | 第38-40页 |
| 3.2.2 不同成型压力下Fe_3Si热敏电阻的致密度 | 第40-41页 |
| 3.2.3 成型压力对Fe_3Si合金室温电阻率的影响 | 第41-42页 |
| 3.2.4 成型压力对Fe_3Si合金热敏特性的影响 | 第42-44页 |
| 3.3 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 Mn、V掺杂对Fe_3Si热敏电阻性能的影响 | 第45-57页 |
| 4.1 研究内容 | 第45页 |
| 4.1.1 样品制备 | 第45页 |
| 4.1.2 样品测试 | 第45页 |
| 4.2 实验结果与讨论 | 第45-55页 |
| 4.2.1 掺杂Mn或V合金材料的物相分析 | 第45-48页 |
| 4.2.2 掺杂Mn或V Fe_3Si合金的致密度分析 | 第48-49页 |
| 4.2.3 掺杂Mn或V Fe_3Si合金的室温电阻率分析 | 第49-51页 |
| 4.2.4 掺杂Mn或V Fe_3Si合金的热敏特性分析 | 第51-55页 |
| 4.3 本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 总结 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 附录 | 第64-65页 |
