摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
目录 | 第8-11页 |
Contents | 第11-14页 |
第一章 绪论 | 第14-26页 |
·研究背景 | 第14页 |
·电镀废水中有机物的来源 | 第14-16页 |
·电镀前处理废水中有机污染物的产生 | 第15页 |
·电镀工艺过程中有机污染物的产生 | 第15-16页 |
·电镀后处理工艺废水中有机污染物的产生 | 第16页 |
·电镀废水中有机物的种类 | 第16-18页 |
·电镀添加剂 | 第16-17页 |
·常见金属电镀液中的有机物 | 第17-18页 |
·电镀废水有机物的常用去除方法 | 第18-21页 |
·吸附法 | 第18-19页 |
·强化混凝法 | 第19-20页 |
·化学氧化法 | 第20-21页 |
·生化法 | 第21页 |
·光-Fenton氧化的研究进展 | 第21-24页 |
·UV/Fenton反应机理 | 第21-22页 |
·UV/Fenton氧化技术的应用研究进展 | 第22-24页 |
·课题研究的意义及主要内容 | 第24-26页 |
·课题研究的意义 | 第24页 |
·课题研究的主要内容 | 第24-26页 |
第二章 实验部分 | 第26-30页 |
·实验试剂 | 第26页 |
·实验仪器和装置 | 第26-28页 |
·实验仪器 | 第26-27页 |
·实验装置 | 第27-28页 |
·实验水样 | 第28页 |
·模拟废水的配置 | 第28页 |
·实际废水 | 第28页 |
·实验方法与分析方法 | 第28-30页 |
·实验方法 | 第28-29页 |
·分析方法 | 第29-30页 |
第三章 不同体系对模拟废水降解研究 | 第30-34页 |
·不同体系对COD去除率的影响 | 第30-31页 |
·不同体系对COD降解动力学研究 | 第31-33页 |
·本章小结 | 第33-34页 |
第四章 UV-Fenton降解模拟电镀废水的研究 | 第34-41页 |
·初始pH对COD去除率的影响 | 第34-35页 |
·H_2O_2的投加量对COD去除率的影响 | 第35-36页 |
·Fe~(2+)与H_2O_2的摩尔配比对COD去除率的影响 | 第36-37页 |
·反应时间对COD去除率的影响 | 第37-38页 |
·双氧水投加次数对COD去除率的影响 | 第38-39页 |
·本章小结 | 第39-41页 |
第五章 实际电镀废水的研究 | 第41-49页 |
·最佳条件下UV-Fenton体系对实际废水降解的研究 | 第41-42页 |
·UV-Fenton体系与Fenton体系处理实际废水的对比 | 第42-44页 |
·Fenton体系对实际废水降解的研究 | 第42页 |
·UV-Fenton体系中H_2O_2的投加量对COD去除率的影响 | 第42-43页 |
·UV-Fenton体系中Fe~(2+)与H_2O_2的摩尔配比的影响 | 第43-44页 |
·UV-Fenton体系改良的对比研究 | 第44-47页 |
·不同草酸根离子量的对比实验研究 | 第45-46页 |
·不同H_2O_2投加量的对比实验研究 | 第46-47页 |
·不同pH值下的对比实验研究 | 第47页 |
·本章小结 | 第47-49页 |
第六章 结论 | 第49-51页 |
参考文献 | 第51-55页 |
攻读学位期间发表论文 | 第55-57页 |
致谢 | 第57页 |