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氧化亚铜的制备及其光电器件的制备

摘要第3-4页
Abstract第4-5页
第一章 绪论第8-17页
    1.1 引言第8-9页
    1.2 氧化亚铜基本特性第9-10页
        1.2.1 氧化亚铜晶体结构第9页
        1.2.2 氧化亚铜的光电性质第9-10页
    1.3 氧化亚铜的应用第10-12页
        1.3.1 Cu_2O在太阳能电池中的应用第10-11页
        1.3.2 Cu_2O在其他领域的应用第11-12页
    1.4 氧化亚铜的制备方法第12-16页
        1.4.1 高温热氧化法第12页
        1.4.2 热蒸镀法第12-13页
        1.4.3 磁控溅射法第13页
        1.4.4 分子束外延法第13-14页
        1.4.5 电化学沉积法第14页
        1.4.6 溶胶-凝胶法第14-16页
    1.5 本文研究思路及实验内容第16-17页
第二章 氧化亚铜晶体材料制备表征第17-28页
    2.1 前言第17-18页
    2.2 热氧化法制备Cu_2O晶体第18-20页
        2.2.1 实验仪器第18页
        2.2.2 实验试剂及材料第18页
        2.2.3 实验流程第18-20页
    2.3 氧化亚铜晶体表征第20-27页
        2.3.1 晶体结构性能表征第20-21页
        2.3.2 晶体材料的光学性能表征第21-22页
        2.3.3 晶体表面形貌表征第22-23页
        2.3.4 Cu_2O晶体霍尔效应测试分析(Hall Effect)第23-24页
        2.3.5 Cu_2O不同晶面的电学性质测试第24-25页
        2.3.6 开尔文探针力显微镜(KPFM)表征晶体材料表面电势第25-27页
    2.4 本章小结第27-28页
第三章 热蒸发法制备Cu_2O薄膜及Si/Cu_2O异质结光电特性研究第28-38页
    3.1 前言第28-29页
    3.2 Si/Cu_2O异质结器件制作第29-32页
        3.2.1 实验仪器第29-30页
        3.2.2 实验试剂及材料第30页
        3.2.3 实验流程第30-32页
    3.3 Si/Cu_2O异质结器件性能测试第32-37页
        3.3.1 X射线光电子能谱对薄膜测试分析第32-33页
        3.3.2 太阳能器件效率测试分析第33-37页
    3.4 本章小结第37-38页
第四章 磁控溅射法制备Cu_2O薄膜及Si/Cu_2O异质结光电特性研究第38-46页
    4.1 前言第38-39页
    4.2 实验部分第39-42页
        4.2.1 实验仪器第39页
        4.2.2 实验材料第39-40页
        4.2.3 实验流程第40-42页
    4.3 Cu_2O薄膜表征第42-43页
        4.3.1 不同氧气流量对Cu_2O薄膜结构的影响第42页
        4.3.2 不同氧气流量对Cu_2O薄膜光学性能影响第42-43页
    4.4 Si/Cu_2O异质结器件性能测试表征第43-45页
    4.5 本章小结第45-46页
第五章 总结和展望第46-48页
    5.1 总结第46-47页
    5.2 展望第47-48页
参考文献第48-52页
硕士期间发表的学术论文第52-53页
致谢第53页

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