| 主要符号表 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2 学术和应用价值 | 第10页 |
| 1.3 国内外纳米碳膜的摩擦学研究现状 | 第10-14页 |
| 1.3.1 纳米碳膜制备方法的研究现状 | 第11-12页 |
| 1.3.2 纳米碳膜摩擦特性的研究现状 | 第12-14页 |
| 1.4 研究内容 | 第14-16页 |
| 第2章 ECR纳米碳膜的制备 | 第16-28页 |
| 2.1 ECR纳米碳膜制备原理 | 第16-18页 |
| 2.2 ECR等离子体纳米表面制造装置 | 第18-20页 |
| 2.3 制备参数的选择 | 第20-21页 |
| 2.4 ECR离子照射纳米碳膜的制备流程 | 第21-23页 |
| 2.5 等离子体状态分析 | 第23-26页 |
| 2.5.1 基片偏压V_b对等离子体状态影响 | 第24页 |
| 2.5.2 微波功率P_μ对等离子体状态影响 | 第24-25页 |
| 2.5.3 工作气压对等离子体状态影响 | 第25-26页 |
| 2.6 本章小结 | 第26-28页 |
| 第3章纳米碳膜的结构及形貌表征 | 第28-41页 |
| 3.1 拉曼表征 | 第28-33页 |
| 3.1.1 不同基片偏压V_b下碳膜的拉曼光谱 | 第29-30页 |
| 3.1.2 不同微波功率P_μ下碳膜的拉曼光谱 | 第30-31页 |
| 3.1.3 不同工作气压下碳膜的拉曼光谱 | 第31-33页 |
| 3.2 AFM表面形貌表征 | 第33-38页 |
| 3.2.1 不同基片偏压V_b下碳膜的表面形貌表征 | 第33-35页 |
| 3.2.2 不同微波功率P_μ下碳膜的表面形貌表征 | 第35-37页 |
| 3.2.3 不同工作气压下碳膜的表面形貌表征 | 第37-38页 |
| 3.3 透射电子显微镜（TEM）表征碳膜纳米结构 | 第38-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-41页 |
| 第4章 纳米碳膜摩擦学特性研究 | 第41-52页 |
| 4.1 球盘式摩擦磨损试验机介绍 | 第41-43页 |
| 4.2 球盘式摩擦磨损试验机操作步骤 | 第43-44页 |
| 4.3 摩擦磨损实验装置标定 | 第44-45页 |
| 4.4 硅基体的典型摩擦学曲线 | 第45-46页 |
| 4.5 纳米碳膜的摩擦学曲线 | 第46-51页 |
| 4.5.1 不同基片偏压V_b下碳膜的摩擦特性 | 第46-48页 |
| 4.5.2 不同微波功率P_μ下碳膜的摩擦特性 | 第48-49页 |
| 4.5.3 不同工作气压下碳膜的摩擦特性 | 第49-51页 |
| 4.6 本章小结 | 第51-52页 |
| 第5章纳米碳膜的摩擦接触机理 | 第52-58页 |
| 5.1 非晶碳膜摩擦界面的表征 | 第52-55页 |
| 5.2 纳晶碳膜的摩擦界面的表征 | 第55-57页 |
| 5.3 纳米结构碳膜摩擦接触机理 | 第57页 |
| 5.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 第6章结论 | 第58-60页 |
| 6.1 本文结论 | 第58-59页 |
| 6.2 今后工作展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第65页 |