二次形核率对金刚石膜生长的研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-28页 |
| 1.1 前言 | 第11-14页 |
| 1.1.1 金刚石晶体结构 | 第11-12页 |
| 1.1.2 金刚石性能及应用 | 第12-14页 |
| 1.2 CVD金刚石的制备方法 | 第14-19页 |
| 1.2.1 CVD金刚石的生长机理 | 第15-16页 |
| 1.2.2 HFCVD法 | 第16-17页 |
| 1.2.3 直流电弧喷射等离子体化学气相沉积法 | 第17-18页 |
| 1.2.4 MPCVD法 | 第18-19页 |
| 1.3 MPCVD金刚石膜沉积装置的研究进展 | 第19-25页 |
| 1.3.1 矩形单模MPCVD装置 | 第20-21页 |
| 1.3.2 椭球形MPCVD装置 | 第21-22页 |
| 1.3.3 圆柱形MPCVD装置 | 第22-25页 |
| 1.4 本文研究意义与内容 | 第25-28页 |
| 第2章 实验装置与结果表征 | 第28-35页 |
| 2.1 微波等离子体化学气相沉积装置 | 第28-31页 |
| 2.2 结果表征 | 第31-35页 |
| 2.2.1 光学金相显微镜 | 第31-32页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜 | 第32页 |
| 2.2.3 激光拉曼光谱 | 第32-33页 |
| 2.2.4 X射线衍射 | 第33-35页 |
| 第3章 高浓度氩气对金刚石膜二次形核率的影响 | 第35-42页 |
| 3.1 高浓度氩气对金刚石膜表面形貌的影响 | 第36-37页 |
| 3.2 高浓度氩气对金刚石膜质量的影响 | 第37-39页 |
| 3.3 高浓度氩气对金刚石膜晶粒尺寸的影响 | 第39-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-42页 |
| 第4章 甲烷浓度对于金刚石膜二次形核率的影响 | 第42-48页 |
| 4.1 甲烷浓度对金刚石膜表面形貌的影响 | 第43-44页 |
| 4.2 甲烷浓度对金刚石膜质量的影响 | 第44-45页 |
| 4.3 甲烷浓度对于金刚石膜取向性的影响 | 第45-46页 |
| 4.4 本章小结 | 第46-48页 |
| 第5章 全文总结及展望 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-58页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
