摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-12页 |
绪论 | 第12-14页 |
综述部分 | 第14-47页 |
第一章 硅纳米颗粒的特性及研究方法 | 第15-26页 |
·硅纳米颗粒的研究进展与制备方法 | 第15-19页 |
·引言 | 第15-16页 |
·制备硅纳米颗粒的方法 | 第16页 |
·激光与物质相互作用的机理 | 第16-19页 |
·胶体特性简介 | 第19页 |
·纳米结构单元及其特性 | 第19-22页 |
·小尺寸效应 | 第20-21页 |
·表面效应 | 第21-22页 |
·量子尺寸效应 | 第22页 |
·宏观量子隧道效应 | 第22页 |
·硅纳米结构的表征方法 | 第22-26页 |
第二章 多孔硅的制备、钝化及结构特性 | 第26-38页 |
·多孔硅材料的研究历史与发展趋势 | 第26-28页 |
·引言 | 第26页 |
·多孔硅材料的研究历史 | 第26-27页 |
·多孔硅的应用前景 | 第27-28页 |
·多孔硅的制备方法、形成机理和钝化 | 第28-34页 |
·多孔硅的制备方法 | 第28-30页 |
·多孔硅的形成机理 | 第30-33页 |
·多孔硅的钝化 | 第33-34页 |
·多孔硅的结构特性研究 | 第34-38页 |
第三章 半导体纳米材料的光学性质 | 第38-47页 |
·半导体在低维体系中的能级和态密度 | 第38-39页 |
·能级 | 第38-39页 |
·态密度 | 第39页 |
·半导体纳米材料的电子结构 | 第39-40页 |
·硅纳米材料的光学性质 | 第40-47页 |
·硅纳米材料的光吸收 | 第40-41页 |
·硅纳米材料的光发射 | 第41-47页 |
实验部分 | 第47-76页 |
第一章 提高多孔硅的光致发光性能的探索研究 | 第48-54页 |
·引言 | 第48页 |
·实验部分 | 第48-50页 |
·电解池实验装置 | 第48-49页 |
·清洗样品 | 第49页 |
·实验过程 | 第49-50页 |
·测量仪器 | 第50页 |
·结果与讨论 | 第50-52页 |
·表面形貌分析 | 第50-51页 |
·提高多孔硅光致发光的方法 | 第51-52页 |
·结论 | 第52-54页 |
第二章 激光对硅表面的改性及与多孔硅的光致发光比较研究 | 第54-61页 |
·引言 | 第54页 |
·实验部分 | 第54-55页 |
·激光烧蚀装置 | 第54-55页 |
·清洗样品 | 第55页 |
·制备样品 | 第55页 |
·测量仪器 | 第55页 |
·结果与讨论 | 第55-60页 |
·脉冲激光 1064nm 与硅片相互作用机制 | 第56页 |
·准分子激光器 248nm 与硅片相互作用机制 | 第56-58页 |
·激光烧蚀后的 Si 片与多孔硅光致发光比较 | 第58-60页 |
·结论 | 第60-61页 |
第三章 激光烧蚀法制备硅纳米颗粒的产物研究 | 第61-69页 |
·引言 | 第61页 |
·实验部分 | 第61-62页 |
·实验装置 | 第61-62页 |
·清洗与制备样品 | 第62页 |
·测量仪器 | 第62页 |
·结果与讨论 | 第62-67页 |
·纳米颗粒形成机理 | 第62-64页 |
·硅纳米颗粒的紫外-可见吸收光谱 | 第64-65页 |
·硅纳米颗粒的光致发光谱 | 第65-66页 |
·其它溶液中硅纳米颗粒的光致发光 | 第66-67页 |
·结论 | 第67-69页 |
第四章 激光烧蚀法和电化学腐蚀法制备硅纳米颗粒的光谱学特性研究 | 第69-75页 |
·引言 | 第69页 |
·实验及装置 | 第69-70页 |
·制备样品 | 第69-70页 |
·测量仪器 | 第70页 |
·实验结果及讨论 | 第70-74页 |
·纳米颗粒形貌表征 | 第70-71页 |
·硅纳米颗粒的紫外-可见吸收光谱 | 第71-72页 |
·硅纳米颗粒的光致发光谱 | 第72-74页 |
·结论 | 第74-75页 |
第五章 硅纳米材料的研究与展望 | 第75-76页 |
参考文献 | 第76-84页 |
绪论参考文献 | 第76页 |
综述部分 | 第76-80页 |
第一章参考文献 | 第76-77页 |
第二章参考文献 | 第77-79页 |
第三章参考文献 | 第79-80页 |
实验部分 | 第80-84页 |
第一章参考文献 | 第80页 |
第二章参考文献 | 第80-81页 |
第三章参考文献 | 第81-82页 |
第四章参考文献 | 第82-83页 |
第五章参考文献 | 第83-84页 |
附录 | 第84-85页 |
致谢 | 第85页 |