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硅纳米材料的制备及其光学特性研究

摘要第1-6页
Abstract第6-12页
绪论第12-14页
综述部分第14-47页
 第一章 硅纳米颗粒的特性及研究方法第15-26页
   ·硅纳米颗粒的研究进展与制备方法第15-19页
     ·引言第15-16页
     ·制备硅纳米颗粒的方法第16页
     ·激光与物质相互作用的机理第16-19页
   ·胶体特性简介第19页
   ·纳米结构单元及其特性第19-22页
     ·小尺寸效应第20-21页
     ·表面效应第21-22页
     ·量子尺寸效应第22页
     ·宏观量子隧道效应第22页
   ·硅纳米结构的表征方法第22-26页
 第二章 多孔硅的制备、钝化及结构特性第26-38页
   ·多孔硅材料的研究历史与发展趋势第26-28页
     ·引言第26页
     ·多孔硅材料的研究历史第26-27页
     ·多孔硅的应用前景第27-28页
   ·多孔硅的制备方法、形成机理和钝化第28-34页
     ·多孔硅的制备方法第28-30页
     ·多孔硅的形成机理第30-33页
     ·多孔硅的钝化第33-34页
   ·多孔硅的结构特性研究第34-38页
 第三章 半导体纳米材料的光学性质第38-47页
   ·半导体在低维体系中的能级和态密度第38-39页
     ·能级第38-39页
     ·态密度第39页
   ·半导体纳米材料的电子结构第39-40页
   ·硅纳米材料的光学性质第40-47页
     ·硅纳米材料的光吸收第40-41页
     ·硅纳米材料的光发射第41-47页
实验部分第47-76页
 第一章 提高多孔硅的光致发光性能的探索研究第48-54页
   ·引言第48页
   ·实验部分第48-50页
     ·电解池实验装置第48-49页
     ·清洗样品第49页
     ·实验过程第49-50页
     ·测量仪器第50页
   ·结果与讨论第50-52页
     ·表面形貌分析第50-51页
     ·提高多孔硅光致发光的方法第51-52页
   ·结论第52-54页
 第二章 激光对硅表面的改性及与多孔硅的光致发光比较研究第54-61页
   ·引言第54页
   ·实验部分第54-55页
     ·激光烧蚀装置第54-55页
     ·清洗样品第55页
     ·制备样品第55页
     ·测量仪器第55页
   ·结果与讨论第55-60页
     ·脉冲激光 1064nm 与硅片相互作用机制第56页
     ·准分子激光器 248nm 与硅片相互作用机制第56-58页
     ·激光烧蚀后的 Si 片与多孔硅光致发光比较第58-60页
   ·结论第60-61页
 第三章 激光烧蚀法制备硅纳米颗粒的产物研究第61-69页
   ·引言第61页
   ·实验部分第61-62页
     ·实验装置第61-62页
     ·清洗与制备样品第62页
     ·测量仪器第62页
   ·结果与讨论第62-67页
     ·纳米颗粒形成机理第62-64页
     ·硅纳米颗粒的紫外-可见吸收光谱第64-65页
     ·硅纳米颗粒的光致发光谱第65-66页
     ·其它溶液中硅纳米颗粒的光致发光第66-67页
   ·结论第67-69页
 第四章 激光烧蚀法和电化学腐蚀法制备硅纳米颗粒的光谱学特性研究第69-75页
   ·引言第69页
   ·实验及装置第69-70页
     ·制备样品第69-70页
     ·测量仪器第70页
   ·实验结果及讨论第70-74页
     ·纳米颗粒形貌表征第70-71页
     ·硅纳米颗粒的紫外-可见吸收光谱第71-72页
     ·硅纳米颗粒的光致发光谱第72-74页
   ·结论第74-75页
 第五章 硅纳米材料的研究与展望第75-76页
参考文献第76-84页
 绪论参考文献第76页
 综述部分第76-80页
  第一章参考文献第76-77页
  第二章参考文献第77-79页
  第三章参考文献第79-80页
 实验部分第80-84页
  第一章参考文献第80页
  第二章参考文献第80-81页
  第三章参考文献第81-82页
  第四章参考文献第82-83页
  第五章参考文献第83-84页
附录第84-85页
致谢第85页

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