| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-6页 |
| 第一章 导言 | 第6-9页 |
| ·选题的意义和目的 | 第6-7页 |
| ·有关基本概念和论文分析的前提说明 | 第7-9页 |
| ·技术转移(Technology Transfer) | 第7页 |
| ·技术外溢(Technology Spillover) | 第7-8页 |
| ·本文所界定的技术转移 | 第8-9页 |
| 第二章 技术垄断型跨国公司的技术溢出 | 第9-16页 |
| ·技术外溢形成的根源 | 第9-10页 |
| ·技术溢出的机制 | 第10-12页 |
| ·联系效应 | 第10-11页 |
| ·示范和模仿 | 第11页 |
| ·人员流动 | 第11-12页 |
| ·近几年跨国公司对华技术转移的新特点及其原因分析 | 第12-13页 |
| ·由逐步进入到大幅度转让技术 | 第12页 |
| ·由被动的技术转让到自觉的技术投入 | 第12-13页 |
| ·由单纯的技术转让向研究开发战略的转变 | 第13页 |
| ·对技术控制的增强 | 第13页 |
| ·影响技术垄断型跨国公司技术外溢程度的因素 | 第13-16页 |
| ·FDI 技术溢出效应受到当地产品市场竞争环境的影响 | 第13-14页 |
| ·FDI 技术溢出效应受到发展中东道国自身吸纳能力的影响 | 第14页 |
| ·FDI 技术溢出效应受到当地教育水平的影响 | 第14页 |
| ·FDI 技术溢出效应受到东道国经济与跨国公司联系程度的影响 | 第14页 |
| ·FDI 技术溢出效应受到东道国经济发展水平的影响因素 | 第14-16页 |
| 第三章 技术垄断型跨国公司技术溢出的案例研究 | 第16-22页 |
| ·英特尔在中国区的技术投入 | 第16-17页 |
| ·设立研究中心和试验室 | 第16页 |
| ·召开行业技术峰会 | 第16-17页 |
| ·通过专门的战略投资部门进行IT 技术方面的投资 | 第17页 |
| ·其他方面的举措 | 第17页 |
| ·英特尔在中国区近几年面临的市场环境变化 | 第17-19页 |
| ·竞争加剧对产业联系效应的影响 | 第19-20页 |
| ·由美国“第二供应商规则”反观国内鼓励技术外溢的缺陷 | 第20-22页 |
| 第四章 我国利用技术溢出推动技术进步的现状与建议 | 第22-26页 |
| ·国外电子行业利用技术溢出推动技术进步的经验分析 | 第22-24页 |
| ·在引进跨国公司发展电子产业时充分利用竞争因素为自己服务 | 第22页 |
| ·韩国在一些重点扶持的行业，积极吸引跨国公司的投资 | 第22-23页 |
| ·在利用外资投资的同时韩国也不忘自身对外投资，两者相辅相成 | 第23页 |
| ·韩国政府十分注重自身企业的发展壮大 | 第23-24页 |
| ·注重大型企业自身科研能力的培养 | 第24页 |
| ·我国提高外商直接投资技术外溢效应的对策研究 | 第24-26页 |
| ·引入竞争机制 | 第24-25页 |
| ·加强国内企业与跨国公司的有效关联 | 第25页 |
| ·行业内技术扩散意识要加强 | 第25-26页 |
| 参考文献 | 第26-28页 |
| 致谢 | 第28页 |
| 声 明 | 第28-29页 |
| 中文详细摘要 | 第29-33页 |
| 英文详细摘要 | 第33-36页 |
