低压真空烧结炉自动控制系统研究与设计
中文摘要 | 第1-5页 |
英文摘要 | 第5-10页 |
1 绪论 | 第10-14页 |
·课题研究背景 | 第10页 |
·国内外低压真空烧结炉研制 | 第10-11页 |
·存在的问题及研究现状 | 第11-13页 |
·存在的问题 | 第11-12页 |
·研究现状 | 第12-13页 |
·本文研究的主要内容 | 第13-14页 |
2 低压真空烧结炉的相关工艺及控制要求 | 第14-26页 |
·低压真空烧结原理 | 第14-15页 |
·脱蜡 | 第14页 |
·真空烧结 | 第14-15页 |
·低压热等静压处理 | 第15页 |
·影响低压真空烧结的主要因素 | 第15-17页 |
·温度 | 第15-16页 |
·真空度 | 第16-17页 |
·压力 | 第17页 |
·低压真空烧结炉简介 | 第17-20页 |
·炉体结构 | 第18页 |
·脱蜡系统 | 第18页 |
·真空系统 | 第18页 |
·电控系统 | 第18-19页 |
·气控系统 | 第19页 |
·液压系统 | 第19页 |
·冷热水供给系统 | 第19-20页 |
·低压真空烧结炉控制系统分析 | 第20-24页 |
·工艺过程 | 第20-24页 |
·控制系统自动控制工艺流程图 | 第24页 |
·本章小结 | 第24-26页 |
3 低压真空烧结炉控制系统设计 | 第26-52页 |
·低压真空烧结炉控制系统结构及选型 | 第26-29页 |
·控制系统组成结构 | 第26页 |
·低压真空烧结炉控制系统I/O 点统计 | 第26-27页 |
·温度、真空度、压力传感器选型 | 第27页 |
·控制系统硬件配置及选型 | 第27-28页 |
·控制系统网络拓朴结构 | 第28-29页 |
·技术指标及控制系统功能 | 第29-31页 |
·基本参数 | 第29页 |
·冷却水、电力、气体供应技术要求 | 第29-30页 |
·控制系统功能 | 第30-31页 |
·下位机软件设计 | 第31-41页 |
·57-300 系列PLC 概况 | 第31-33页 |
·57-300 PLC 硬件组态 | 第33-34页 |
·PLC 程序结构 | 第34-36页 |
·程序功能块 | 第36页 |
·主程序工作流程 | 第36-37页 |
·温度PID 控制程序功能块 | 第37-41页 |
·真空度、压力控制 | 第41页 |
·上位机监控软件设计 | 第41-47页 |
·WinCC 监控组态软件 | 第41-42页 |
·监控软件设计 | 第42-47页 |
·控制系统的通信 | 第47-50页 |
·PROFIBUS 现场总线 | 第47页 |
·MPI 通信 | 第47-48页 |
·控制系统两级通信实现 | 第48-50页 |
·本章小结 | 第50-52页 |
4 低压真空烧结炉实验模型的研究 | 第52-62页 |
·工业过程常用建模方法 | 第52-55页 |
·阶跃响应测试法建模 | 第55-59页 |
·烧结炉动态特性实验测定和识别 | 第59-61页 |
·实验方案 | 第59页 |
·试验注意事项 | 第59-60页 |
·对象传递函数模型 | 第60页 |
·实验数据处理 | 第60-61页 |
·本章小结 | 第61-62页 |
5 低压真空烧结炉温度控制策略研究 | 第62-78页 |
·温度控制系统基本方案 | 第62-63页 |
·常规PID 控制算法 | 第63-67页 |
·PID 控制原理 | 第63-64页 |
·改进型PID 控制算法 | 第64-66页 |
·PID 参数整定 | 第66-67页 |
·低压真空烧结炉温度控制策略的选择 | 第67页 |
·模糊控制原理 | 第67-69页 |
·模糊自适应整定PID 控制 | 第69-76页 |
·模糊自适应整定PID 控制概论 | 第69-70页 |
·模糊自适应整定PID 控制系统结构 | 第70-71页 |
·模糊控制器设计 | 第71-76页 |
·MATLAB 仿真 | 第76-77页 |
·本章小结 | 第77-78页 |
6 结论与展望 | 第78-80页 |
致谢 | 第80-82页 |
参考文献 | 第82-86页 |
附录 | 第86-87页 |
独创性声明 | 第87页 |
学位论文版权使用授权书 | 第87页 |