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低压真空烧结炉自动控制系统研究与设计

中文摘要第1-5页
英文摘要第5-10页
1 绪论第10-14页
   ·课题研究背景第10页
   ·国内外低压真空烧结炉研制第10-11页
   ·存在的问题及研究现状第11-13页
     ·存在的问题第11-12页
     ·研究现状第12-13页
   ·本文研究的主要内容第13-14页
2 低压真空烧结炉的相关工艺及控制要求第14-26页
   ·低压真空烧结原理第14-15页
     ·脱蜡第14页
     ·真空烧结第14-15页
     ·低压热等静压处理第15页
   ·影响低压真空烧结的主要因素第15-17页
     ·温度第15-16页
     ·真空度第16-17页
     ·压力第17页
   ·低压真空烧结炉简介第17-20页
     ·炉体结构第18页
     ·脱蜡系统第18页
     ·真空系统第18页
     ·电控系统第18-19页
     ·气控系统第19页
     ·液压系统第19页
     ·冷热水供给系统第19-20页
   ·低压真空烧结炉控制系统分析第20-24页
     ·工艺过程第20-24页
     ·控制系统自动控制工艺流程图第24页
   ·本章小结第24-26页
3 低压真空烧结炉控制系统设计第26-52页
   ·低压真空烧结炉控制系统结构及选型第26-29页
     ·控制系统组成结构第26页
     ·低压真空烧结炉控制系统I/O 点统计第26-27页
     ·温度、真空度、压力传感器选型第27页
     ·控制系统硬件配置及选型第27-28页
     ·控制系统网络拓朴结构第28-29页
   ·技术指标及控制系统功能第29-31页
     ·基本参数第29页
     ·冷却水、电力、气体供应技术要求第29-30页
     ·控制系统功能第30-31页
   ·下位机软件设计第31-41页
     ·57-300 系列PLC 概况第31-33页
     ·57-300 PLC 硬件组态第33-34页
     ·PLC 程序结构第34-36页
     ·程序功能块第36页
     ·主程序工作流程第36-37页
     ·温度PID 控制程序功能块第37-41页
     ·真空度、压力控制第41页
   ·上位机监控软件设计第41-47页
     ·WinCC 监控组态软件第41-42页
     ·监控软件设计第42-47页
   ·控制系统的通信第47-50页
     ·PROFIBUS 现场总线第47页
     ·MPI 通信第47-48页
     ·控制系统两级通信实现第48-50页
   ·本章小结第50-52页
4 低压真空烧结炉实验模型的研究第52-62页
   ·工业过程常用建模方法第52-55页
   ·阶跃响应测试法建模第55-59页
   ·烧结炉动态特性实验测定和识别第59-61页
     ·实验方案第59页
     ·试验注意事项第59-60页
     ·对象传递函数模型第60页
     ·实验数据处理第60-61页
   ·本章小结第61-62页
5 低压真空烧结炉温度控制策略研究第62-78页
   ·温度控制系统基本方案第62-63页
   ·常规PID 控制算法第63-67页
     ·PID 控制原理第63-64页
     ·改进型PID 控制算法第64-66页
     ·PID 参数整定第66-67页
     ·低压真空烧结炉温度控制策略的选择第67页
   ·模糊控制原理第67-69页
   ·模糊自适应整定PID 控制第69-76页
     ·模糊自适应整定PID 控制概论第69-70页
     ·模糊自适应整定PID 控制系统结构第70-71页
     ·模糊控制器设计第71-76页
   ·MATLAB 仿真第76-77页
   ·本章小结第77-78页
6 结论与展望第78-80页
致谢第80-82页
参考文献第82-86页
附录第86-87页
独创性声明第87页
学位论文版权使用授权书第87页

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