基于PVD法的锌薄膜及特性研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第一章 前言 | 第9-29页 |
| ·锌的基本性质 | 第9-12页 |
| ·锌的结构与物理化学性质 | 第9-12页 |
| ·锌的晶体结构 | 第9页 |
| ·锌的热力学性质 | 第9-10页 |
| ·锌的物理性质 | 第10页 |
| ·锌的耐蚀性 | 第10-12页 |
| ·锌膜的应用 | 第12-15页 |
| ·薄膜的制备 | 第15-23页 |
| ·真空蒸发沉积 | 第15-18页 |
| ·概况 | 第15-17页 |
| ·真空蒸发沉积的基本原理 | 第17页 |
| ·物质的蒸发速度 | 第17-18页 |
| ·溅射沉积 | 第18-22页 |
| ·概况 | 第18-19页 |
| ·溅射的基本过程 | 第19-20页 |
| ·气体辉光放电的物理基础 | 第20-22页 |
| ·蒸发法与溅射法的比较 | 第22-23页 |
| ·薄膜分析技术 | 第23-27页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第23-25页 |
| ·X射线衍射技术 | 第25-26页 |
| ·原子力显微镜 | 第26-27页 |
| ·薄膜的厚度与表面粗糙度 | 第27-28页 |
| ·薄膜厚度 | 第27页 |
| ·薄膜表面粗糙度 | 第27-28页 |
| ·实验的目的和意义 | 第28-29页 |
| 第二章 PVD法沉积锌膜的实验 | 第29-34页 |
| ·真空蒸发法沉积锌膜 | 第29-30页 |
| ·真空蒸发设备 | 第29页 |
| ·基片的清洗 | 第29-30页 |
| ·真空蒸发沉积锌膜的实验步骤 | 第30页 |
| ·直流溅射法沉积锌膜 | 第30-31页 |
| ·直流溅射镀膜设备 | 第30页 |
| ·实验步骤 | 第30-31页 |
| ·实验药剂 | 第31页 |
| ·锌膜特性分析检测 | 第31-34页 |
| ·锌膜的厚度与沉积速率的测定 | 第31-32页 |
| ·扫描电子显微观察 | 第32-33页 |
| ·原子力显微观察 | 第33页 |
| ·X射线衍射光谱 | 第33-34页 |
| 第三章 PVD法沉积锌膜的适宜条件 | 第34-55页 |
| ·真空蒸发法制备锌膜 | 第34-39页 |
| ·加热电流对沉积速率及锌膜表面形貌的影响 | 第34-36页 |
| ·源基距对沉积速率及锌膜表面形貌的影响 | 第36-39页 |
| ·直流溅射法沉积锌膜 | 第39-42页 |
| ·溅射电压对沉积速率的影响 | 第39-40页 |
| ·惰性气体压力对沉积速率的影响 | 第40-41页 |
| ·靶基距对沉积速率的影响 | 第41-42页 |
| ·真空蒸发法锌膜晶体生长模式 | 第42-53页 |
| ·薄膜生长过程的理论分析 | 第42-47页 |
| ·沉积条件对锌膜晶体结晶形貌的影响 | 第47-49页 |
| ·沉积条件对锌膜晶体生长模式的影响 | 第49-50页 |
| ·沉积速率对形核过程的影响 | 第50-51页 |
| ·衬底温度对形核过程的影响 | 第51-52页 |
| ·沉积方法对锌膜结晶粒度的影响 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第四章 锌膜的物相与表面形貌 | 第55-74页 |
| ·锌膜的X射线衍射分析 | 第55-57页 |
| ·薄膜厚度的AFM分析 | 第57-58页 |
| ·薄膜表面的AFM分析 | 第58-72页 |
| ·玻璃基片的表面形貌 | 第58页 |
| ·真空蒸发法制备锌膜的表面形貌 | 第58-65页 |
| ·加热电流对薄膜表面形貌的影响 | 第58-62页 |
| ·源基距对锌膜表面形貌的影响 | 第62-65页 |
| ·直流溅射法制备锌膜的表面形貌 | 第65-72页 |
| ·溅射电压对锌膜表面形貌的影响 | 第66-69页 |
| ·靶基距对锌膜表面形貌的影响 | 第69-72页 |
| ·本章小结 | 第72-74页 |
| 第五章 结论 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
